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半導體 - 黃光製程. 班級 : 光電一甲 組員 : 康竣傑 499L0024 ( 收集資料、 Word 書面報告製作、報告 ) 賴旻賢 499L0087 ( 收集資料 ) 蕭辰字 499L0087 ( 收集資料、 Word 書面報告製作、 PPT 製作 ) 黃星翰 499L0095 ( 收集資料、 Word 書面報告製作 ). 工作原理. 黃光製程包括最主要三個步驟「光阻塗佈、曝光、顯影。」 ( 全部過程 : 清洗、烘乾,上光阻,軟烤、微影、硬烤、顯影後檢查 ) 。. 工作原理.
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半導體-黃光製程 班級:光電一甲 組員: 康竣傑 499L0024 (收集資料、Word書面報告製作、報告) 賴旻賢 499L0087 (收集資料) 蕭辰字 499L0087 (收集資料、Word書面報告製作、PPT製作) 黃星翰 499L0095 (收集資料、Word書面報告製作)
工作原理 • 黃光製程包括最主要三個步驟「光阻塗佈、曝光、顯影。」(全部過程:清洗、烘乾,上光阻,軟烤、微影、硬烤、顯影後檢查) 。
工作原理 • 首先在晶片的表層上覆蓋一層感光材料(光阻),當光源的平行光,經過以玻璃為主體的光罩膜,打在這層感光材料上,由於光罩上面有圖案,這些圖案將投入射光反射,而使透過光罩的光束也具備與光罩相同的圖案上的圖案。於是光罩上的圖案完整的傳遞到晶片表面的感光材料,經過顯影後,圖案就會完全轉移到晶片。
環 境 危 害 • 在黃光區中光阻液清洗、濕像液清除、蝕刻液清除及晶圓清洗等均使用大量有機溶劑,主要有丙酮、二氯甲烷、三氯甲烷、丙醇、甲醇、三氯乙烷、丁酮、甲苯、苯、二甲苯、乙醇、乙酸甲酯、二氯乙烯及氯醛等。
參考文獻 • http://www2.nsysu.edu.tw/IEE/lou/elec/web/process/semi.htm • http://tw.myblog.yahoo.com/jw!qVRfrwjDQka87rzunTMtXhk-/article?mid=43 • http://tw.myblog.yahoo.com/jw!IYU4MWSZCQRowWfA6NeGDciL/article?mid=197 • http://tw.knowledge.yahoo.com/question/question?qid=1305092700749 • http://tw.myblog.yahoo.com/jw!.qgiRpKFExTyYR0I9sm4W2caqQ--/article?mid=924 • http://www.me.tnu.edu.tw/study/proj/proj90/90-11%A5%FA%AA%FD%C1%E1%BD%A4%BE%F7%BBP%C0%E3%BBk%A8%E8%B2M%AC~%BE%F7%A4%A7%BBs%B5%7B%BBP%B3%5d%B3%C6%A7%DE%B3N%B9%EA%B0%C8.pdf