KAEL 회사소개서

1. KAEL 회사소개서 KAEL 894, Tamnip-dong, Yuseong-gu, Daejeon, 305-510, Korea Tel:(042)931-6287~9 Fax:(042)931-9190 http://www.kael.co.kr We provide The Hitechnology & Future Environment

2. Contents We provide The Hitechnology & Future Environment Ⅰ. 회사 개요 Ⅱ. 사업 영역 Ⅲ. 제품 구성 -기초핵심소재 - 반도체/디스플레이 사업 - 장치 및 시스템분야 Head Office R&D Institute

3. Ⅰ. 회사 개요 ㈜ 카 엘(KAEL Co., Ltd.)

4. 회사 개요 카엘 연혁 카엘 주요 인증/수상 경력 ▷ 1999년 유망중소기업지정 (KAERI/대전시) ▷ 1999년 ISO 9001:2000 인증 ▷ 2002년 CA Filter TEL 인증 ▷ 2003년 기술혁신형 중소기업(INNO-BIZ)선정 ▷ 2003년 기술혁신상 금상수상 (국무총리상) ▷ 2003년 CA Filter 삼성 Qual 인증 ▷ 2005년 우수납세자 국세청장상 수상 ▷ 2005년 벤처기업 재지정(신기술기업) ▷ 2006년 ISO 14001:2004 (환경경영시스템) 인증 ▷ 2007년 수출유망중소기업 인증 첨단기술기업지정 (과기부) OHSAS 18000 인증 ▷ 2008년 녹색에너지대상 수상(PAS) ▷ 1998년 주식회사 카엘 설립 (원자력연구소 연구원 창업회사) ▷ 1999년 NH3/O3제거용 CA Filter 국산화 ▷ 2000년 공장 및 기업부설연구소 준공 ▷ 2001년 반도체공정용 CA Filter 적용 ▷ 2003년 CA Filter 삼성반도체 납품 ▷ 2005년 KOSDAQ 상장 ▷ 2005년 디스플레이 공정용 CA Filter 납품 ▷ 2006년 CA Filter 중국/싱가폴 수출 ▷ 2007년 신개념 Filter Media 개발 및 미주시장 진출 태국시장(SEIKO) 진출 ▷ 2009년 세계4대 필터 제조사 Media 공급 계약

5. 년 도 개 발 명 1999년 • CA Filter 개발 (Carbon Type, Fabric Type, Pleat Type) • 반도체 유해가스 제거용 Coating Resin 개발 2000년 • VSA 방식을 이용한 VOC 회수 장치 개발 • O3 CA Filter 개발 • NH3 CA Filter 개발 (Carbon Type) • 이온교환섬유와 이온교환수지를 이용한 Media 제조와 이를 응용한 Wet Scrubber 장치 개발 • NH3 CA Filter 개발 (이온교환부직포 Type, 이온교환수지 Type) 2001년 • Ion Exchange Scrubber 와 Coating Resin을 이용한 소각로 유해가스 제거기술 개발 • CO Filter 개발 • Hybrid Filter(O3+NOx) 개발 • NF3, ClF3, AsH3, PH3, BF3제거용 Coating Resin 개발 2002년 • 특수환경오염제어기 개발 (산업용, 화장실용, RI용, 야채/화훼용) • Hybrid Filter(NH3+SOx+NMP+Amine+NOx) 개발 • Cyplus CA Filter 개발(삼성반도체와 공동 특허취득) • Ion Exchange Scrubber 개발 2003년 연구개발 현황

6. 개 발 명 년 도 2004년 • Acid CA Filter 개발 ( HCl, Cl2, HF, SOX, NOX, 기타 부식성 Gas) • Microwave Dryer 개발 • Organic CA Filter 개발 (Display 공정 적용) 2005년 • PFC Scrubber 시스템 개발, CO/CO₂흡착제 개발 • Coating Resin 개발 (HCl, BCl₂등) • Hybrid CA Filter 개발 (NH₃/ SOX) • 성형활성탄 개발 • 대덕연구개발특구 기능성 나노기공소재 개발 및 사업화기업 선정 • 액상촉매제를 이용한 VOCs 저감설비 기술도입 • NGM (New Generation Media) Filter 개발 • 국산개발 군용 Coating Resin (MIL-C-1372D 규격) 성능시험 인증 (GB시험 제외) 2006년 • Tri-Plus Filter 개발 (Photo ArF Scanner 장비용 유기물 필터) • AOCS System 개발 (산배기가스 처리용 2차 Scrubber) • PAS System 개발 (냉각탑 백연제거 시스템) • V-Bank Type 필터개발 2007년 2008년 • WFVOC 개발 (유기물제거 시스템) • N2O 제거 촉매기술도입 및 환경부 환경기술개발사업 선정 연구개발 현황

7. 확장사업 산업환경개선 대기오염방지사업 실내공기질 개선 수처리 국방사업 응용사업 반도체/디스플레이 공정클린화 장치사업분야 특수가스제거 핵심소재 Coating Resin Catalyst 8 80 87 Ⅱ. 사업 영역 사 업 영 역 사업부문별 매출구성 (단위:억) CA Filter 172 Gas Scrubber Equipment/System 117 Export 129 138 80 103 110 109 14 45 21 30 □ 특 허 보 유 현 황 - 복합흡착제를 사용하여 반도체 제조공정에서 발생되는 배기가스를 처리하는 처리방법 - 케미컬 필터 미디엄, 케미컬필터 및 이의제조 방법 등… 특허 64건 , 실용신안 11건 보유 27 15 7 9 15 14 15 17 10 2 2 3 5 3 2003 2004 2005 2006 2007 2008

8. 기술 및 영업 Network

9. Ⅲ. 제품 구성 사 업 구 분 적용 주요제품 • Coating Resin(Impregnated Active Carbon, Inorganic Adsorbant, Catalyst) 기초 핵심소재 • CA Filter ( NH3, O3, Organic, ACID, SO2, Amine, SOx, NOx, NMP... ) CYPLUS-1000 Series ( FFU용 )/ CYPLUS-2000 Series ( 순환기용 ) CYPLUS-3000 Series ( 외조기용 )/ CYPLUS-5000 Series ( 장비용 ) CYPLUS-6000 System • A-Line Filter ALPLUS-1000, 2000, 3000 Serise • Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber 반도체/ 디스플레이 사업 장치 및 시스템분야 • 대기오염방지시스템 (VOC 회수/제거설비, 악취제거설비, De-NOx 설비) • 특수가스제거장치 (Gas Filtering System, 특수환경오염제어기) • Total Off-Gas Control System • PAS (백연제거시스템) , KWRF(산배기처리시스템) • 군용 Coating Resin , 군용 방독면 정화통 • 가스여과기(함상용, 전차용)

10. 기초 핵심 소재 - Coating Resin 기초 소재 자체 개발 양산 –맞춤형 소재 (주요 용도 및 적용처) • 반도체/디스플레이 클린룸 화학오염물질 제거 • 부식성 가스 제거 • 방사성관리구역 방사성가스 제거 • 소각로 다이옥신 제거 • 군용 독가스 제거 • CO Gas 제거 • 악취 및 VOCs 제거 Resin 성형 공정

11. 반도체 및 디스플레이 산업용 - 주요 제품 반도체 및 디스플레이 관련 소재, 장비의 국산화 구 분 주요 기능 경쟁사 대비 비교우위 크린룸&장비유지 CA Filter Pleat Type Tray Type V-Bed Type Round Type V-bank Type • 생산공정상 불량률 증가의 직접적인 원인이 되는 암모니아, 오존, 유기물 등을 제거

12. CA Filter ? 고 청정공간 유지(화학오염원)를 통한 생산성향상의 필수품 V-BED PLEAT 시대별 반도체 오염원 및 제거기술 Oxygen etc 주된 오염원 및 제거대상 제거기술 및 방법 Chemical Gases (Mix / organic) (CA Filter 국산화) Round HYBRID Chemical Gases (CA Filter, 수입) 오염원의 영향 Air Particle Contaminant (밀폐공간유지/HEPA Filter) V-Bank TRAY Metal Contaminant (Wet Cleaning Tech) 1960 1970 1980 1990 2000 2010 2020 [공기청정협회 공기청정기술지 06/12] CA Filter Type

13. CA Filter ? 극 저농도 분자상 물질 제어 기술 MA : Molecular Acids (SOx, NOx, HCl, Cl2, HF, H2S…,), MB : Molecular Bases (NH3, Amine, NMP..,) MC : Molecular Condensables (MW.120, BP.150℃ Organic material), MD : Dopants (Arsine, Boric Acid, Phosphorus…,) Ozone : O3 , VOCs : Volatile organic compounds)

14. Application for Semiconductor ③ ④ ④ ALPLUS-1000, 2000 Series (Ozone, MA, VOCs) ③ ALPLUS-1000, 2000 Series ( MA, MB, VOCs) PHOTO ZONE DIFFUSION/CVD ZONE ② ① ⑥ ⑤ ⑦ ③ ④ ⑥ CYPLUS-3000 Series (MA, MB, Ozone) ⑤ CYPLUS-3000 Series (MA, MB, Ozone) ① CYPLUS-5300 Series (MA, MB, MC, MD, VOCs) ⑦ CYPLUS-5200 Series (MC, VOCs) ② ALPLUS-5100 Series (Ozone, MA)

15. Application for Display ③ ④ ④ ALPLUS-1000, 2000 Series (MB, MC, VOCs) ③ ALPLUS-1000, 2000 Series ( MB, MC, VOCs) TFT ZONE COLOR FILTER ZONE ② ① ⑤ ⑥ ③ ④ ①② CYPLUS-5000 Series (MB, MC, VOCs) ⑤⑥ CYPLUS-6000 SYSTEM (MA, MB, MC, VOCs)

16. 장치 및 시스템 분야 –주요 제품 핵심기술/소재의 장치화 및 시스템화 배기가스제어 Gas Scrubber 액상촉매 Scr' Dry Scr' 이온교환 Scr' 이동식 유해가스 제거기 소각로 다이옥신 제거 부식가스 제거

17. Dry Scrubber Resin

18. 장치 및 시스템 분야 –주요 제품 핵심기술/소재의 장치화 및 시스템화 양압 설비 & 공기정화장치 첨착활성탄 및 특수수지를 사용한 CA Filter 도입 제거효율이 높고 교환주기 연장가능 화학흡착으로 가스 포집 기술 방사성가스제거 RI Filter 연구소 및 병원 방사선관리구역의 방사성가스 및 분진을 기준치 이하로 제어하는 필터 및 이를 장착한 장치

19. 장치 및 시스템 분야 –주요 제품 핵심기술/소재의 장치화 및 시스템화 악취 제거 설비 MEMC Korea 한수원 대전 산업단지 폐수장 LG HIC SK 에너지 POSCO

20. 장치 및 시스템 분야 –주요 제품 핵심기술/소재의 장치화 및 시스템화 VOC회수 및 제거 설비 호남석유화학 (주)SK 백연제거시스템 PAS (Plume Abatement System) (Samsung, POSCO사 14Set 공사 완료) PAS 설치 후 PAS 설치 전

21. 특수가스제거용 필터 “삶의 質 향상 요구와 관련법규의 강화에 따른 환경제품의 국산화” 방사성 가스제거 필터 • 방사성관리구역 및 원자력관련시설에서 발생하는 방사성가스 및 각종 유해가스를 제거 • 원자력발전소, 동위원소 취급 실험실의 방사성 가스 제거 • 병원 등 방사선관리구역의 배기설비에 설치 방 독 면 정 화 통 • 군용 방독면에 장착하는 화생방 방호용 • 화재등 긴급 대피가 요구되는 화재대피용 대중화방독면 • 유해가스 및 열악한 작업현장의 작업자 보호용

22. 고객 맞춤형 대기환경 제품 개발 회사 " 독보적인 환경오염제어기술로 무결점 클린환경을 카엘이 만들어갑니다. "