150 likes | 273 Views
Digit á lis elektronika. IC gyártás I. IC gyártás. Si egykristály rúd készítése Szeletelés, polírozás (cca. 0.5 mm vastag), a felületen oxidréteg létrehozása Layout kialakítása * A k tív ablaknyitás * lonimplantáció * Vékonyoxid növesztés (Gate elektródához)
E N D
Digitális elektronika IC gyártás I.
IC gyártás • Si egykristály rúd készítése • Szeletelés, polírozás (cca. 0.5 mm vastag), a felületen oxidréteg létrehozása • Layout kialakítása • * Aktív ablaknyitás • * lonimplantáció • * Vékonyoxid növesztés (Gate elektródához) • * Ablaknyitás bújtatott kontaktushoz • * Polikristályos Si növesztés (Gate elektróda) • * Polikristályos Si maratás (Gate elektróda) • * Szennyezés (Source, Drain kialakítása) (önbeállitó maszkolás) • * Védőbevonat kialakitása • * Ablaknyitás kontaktushoz • * Al réteg létrehozása • * Fémmaratás • Tesztelés • Tördelés (chip) • Tokozás
Bújtatott kontaktus-ablaknyitás és poliszilícium leválasztás
Poliszilícium és vékonyoxid marás, foszfor diffúzió és PSG üveg leválasztás