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半導體與光電廠務設施. 設施真空系統概說. 設施工程所採用之真空系統. 製程真空 ~ 不作為直接對製程機台提供真空環境,作為製程機台真空設備之末端抽氣或產生粗略真空 ( 如供真空吸筆用 ) 潔淨集塵系統 ~ 屬於負壓型的集塵系統,真空度僅為粗略真空,操作壓力介於排氣系統與製程真空間. 真空等級. 粗略真空 : 1 atm ~10 2 Pa 中度真空 : 10 2 ~ 10 -1 Pa 高真空 : 10 -1 ~ 10 -5 Pa 超高真空 : 10 -5 ~ 10 -8 Pa 極高真空 : <10 -8 Pa. 氣流壓力範圍劃分. 氣流壓力範圍運用.
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半導體與光電廠務設施 設施真空系統概說
設施工程所採用之真空系統 • 製程真空~不作為直接對製程機台提供真空環境,作為製程機台真空設備之末端抽氣或產生粗略真空(如供真空吸筆用) • 潔淨集塵系統~屬於負壓型的集塵系統,真空度僅為粗略真空,操作壓力介於排氣系統與製程真空間
真空等級 • 粗略真空 : 1 atm ~102 Pa • 中度真空 : 102 ~10-1Pa • 高真空 : 10-1 ~10-5Pa • 超高真空 : 10-5 ~10-8Pa • 極高真空 : <10-8Pa
水封式真空泵 • 保養容易:僅一轉動葉輪,無金屬摩擦面,故內部不須潤滑。 • 排氣量大:氣體吸入後被封液冷卻,因此其排氣量較一般容積式泵浦大。 • 出口溫度低:壓縮熱被封液吸住,故排氣溫度低。 • 振動小:不須昂貴之基礎裝置。 • 近似絕熱壓縮:對易爆氣體排氣安全性特高。 • 適用任何氣體:以水或其它液體作封液,葉輪採不銹鋼,適用於含水份﹑蒸氣﹑微粒固體及腐蝕性氣體之真空排氣。 • 無脈動及噪音:真空度穩定,出口加裝消音器,噪音可完全消除。 • 修護容易:使用超過年限時,葉輪與風座之間隙若磨損過大,在正常狀況下,只須將迫緊換薄,重新調整其間隙。
設施工程真空管路的尺寸選擇 • 利用氣導方式計算 : 可不必考慮氣體壓縮密度變化之效應,但計算複雜管路系統(如設施工程)不便利,多半運用於製程機台側的管路設計 • 利用質量流率守恒法 : 需考慮氣體壓縮密度變化之效應(可運用一般流體力學上計算壓降的方式處理問題) • 壓降限制法 : 以不超過系統所設定真空度的30%為原則,一般多用在只針對單點抽氣之系統
選用濾材考慮的因素 • 溫度 • 耐酸鹼性 • 纖微的型式及種類 • 織造方法 • 濾材結構 • 濾材表面處理 • 耐磨損性 • 透氣率 • 撓曲應力 • 補集效率
選用濾布之要點 • 廢氣溫度 • 廢氣化學性質 • 露點 • 酸露點 • 粉塵粒徑 • 粉塵形狀 • 粉塵濃度 • 粉塵逆洗方式 • 集塵系統配置 • 集塵系統尺寸
氣/布比(Air-Cloth Ratio, A/C) • 定義: 總廢氣量 / 濾布面積 (m / min) • AC過低會造成降低集塵效率,降低濾布壽命 • 機械振盪式 AC<1 • 逆洗式 AC < 1,可耐高溫 • 脈衝式 AC=1.5~3