230 likes | 431 Views
26 октября 2005 года. Растровая электронная микроскопия и элементный анализ. Батурин А.С. Процессы на границе раздела среда-вакуум. Термоэлектронная эмиссия Автоэлектронная и автоионная эмиссия Фотоэлектронная эмиссия Вторичная эмиссии (под действием )
E N D
26 октября 2005 года Растровая электронная микроскопия и элементный анализ Батурин А.С.
Процессы на границе раздела среда-вакуум • Термоэлектронная эмиссия • Автоэлектронная и автоионная эмиссия • Фотоэлектронная эмиссия • Вторичная эмиссии (под действием ) • Вторичные электроны, упруго-отраженные электроны и оже-электроны • Вторично-ионная эмиссия • Рассеяние частиц
Устройство растрового микроскопа JEOL JSM-840
Электронная пушка i =100мкА, f= 5мм, Va= 20 кВ, Tk=2700К, dc=2050 мкм
Электронно-оптическая система a = 200 мм,b= 300 мм, f1= 25 мм,f2= 20 мм уменьшение D= 88 Диаметр электронного зонда около 0.5 мкм Сs — коэффициент сферической аберрации линзы, обычно равный 2–3 фокусным расстояниям Диафрагмирование пучка
Упруго-отраженные электроны(элементный контраст) Образец Cu-Cr Элементный контраст
Упруго-отраженные электроны(топографический контраст)
Схема детектора упруго-отраженных электронов
Истинно вторичные электроны Cu-Cr Углеродные нанотрубки
Способы получения изображения в РЭМ • Вторичные электроны • Упруго-отраженные электроны • Элементный контраст • Топографический контраст • Катодолюминесценция • Наведенный ток
Способы детектирования характеристического рентгеновского излучения • Волновой спектрометр • Энерго-дисперсионный спектрометр