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日本物理学会 @ 東京理科大 2005.3.25. 医療用炭素ビームの入射核破砕反応. 炭素 - 水 入射核破砕反応断面積の測定. 炭素 - 水 入射核破砕反応断面積の測定. 歳藤利行 ( 名古屋大学 ). NIRS HIMAC P152 実験. 名古屋大学、 NIRS 、 GEANT4 日本グループ(KEK,SLAC)、 JAXA 、東邦大学など.
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日本物理学会@東京理科大 2005.3.25 医療用炭素ビームの入射核破砕反応 炭素-水 入射核破砕反応断面積の測定 炭素-水 入射核破砕反応断面積の測定 歳藤利行(名古屋大学) NIRS HIMAC P152実験 名古屋大学、NIRS、GEANT4日本グループ(KEK,SLAC)、JAXA、東邦大学など • 名大理,放医研A,高エ研B,宇宙研C,東大理D,神戸大発達E,東邦大理F,愛知教育大教育G,鳴門教育大H,群馬大医I,SLACJ,立命館大理工K 歳藤利行,丹羽公雄,中野敏行,中村琢,伴尊行,高橋覚,兼松伸幸A,遊佐顕I,小森雅孝A, • 村上晃一B,佐々木節B,尼子勝哉B,吉田肇H,田中覚K,小井辰巳A,浅井慎J,尾崎正伸C,国分紀秀D,青木茂樹E, • 渋谷寛F,児玉康一G
入射核破砕反応 ビーム 標的(人体ではH,C,N,O,Ca,Pなど) 炭素ビーム 180MeV/u zの小さな複数個の核に破砕 150μm P152実験の目的 エマルション すべての荷電2次粒子を検出・測定 個々の事象ごとに反応を再構成 原子核の多重度、角度、運動量などを測定。データベース化 GEANT4の重粒子線治療応用を確立させるのに必要な 調整用・検証用データとして利用 炭素-水 入射核破砕反応断面積の測定
2004年1月照射@HIMAC 水 3mm 遮光防水フィルム 厚さ~128μm 炭素-水反応収集用 水ターゲットチェンバー 30cm 人体の主要構成物質 87層 430MeV/u β=0.72 12Cビーム 87層 12000本/2cm×2cm 水中飛程~30cm ビームが静止するまでの エネルギー領域をカバー エマルションフィルム 44μm両面塗り205μmTACベース
エマルションフィルム 12.5cm 厚さ 293μm 10cm OPERA実験用に大量生産中 水槽 87層 40cm 21cm
~120μm 飛跡の高速自動読み取り 44μm 16層の断層映像 3次元画像解析 中野敏行:三次元素粒子飛跡の並列画像処理 日本物理学会誌2001年6月号 S.Aoki, et al. NIM B 51(1990)466 重イオントラックに対して 位置精度~1μm 角度精度~5mrad 検出効率~100%(tanθ≦0.4) 3視野/秒
オンライン:各プレート上でのトラックの読み出しオンライン:各プレート上でのトラックの読み出し
3mm 2cm 22cm エマルションフィルム 44μm両面塗り205μmTACベース 上流側から77層(27cm)分を解析Ekine=430~100MeV/u バーテックスの再構成 水 インパクトパラメータ(μm) 多重度(2次粒子の本数)
430MeV/u 12C ~4000事象 ~12000本 2cm 22cm 上流側から66層(22cm)分のデータEkine=430~200MeV/u
Nint Nbeam(1) P(反応確率)= M(=18分子量)P NAρ(密度)x(厚さ) σ= Nbeam(1) Nint Nbeam(2) 仮定: 破砕反応=2本以上の2次粒子をともなった反応 入射核破砕反応断面積の導出方法 x ビームと2次粒子を同時測定して 反応を再構成・検出 P<<1ならば 任意の深さ(=エネルギー)で分析
Energy Scaling 物質量の補正 • 始点:加速器によるビームエネルギー(430MeV/u) • 終点:反応を起こさないビームが到達する深さを3mm間隔のサンプリングで測定 • 途中:GEANT4によるモンテカルロ計算で内挿 反応点の深さ⇔炭素ビームのエネルギー エネルギー絶対値の誤差<2% エネルギー 12Cビーム 430MeV/u 深さ 終点:測定点
A.N.Golovchenko I.Schall L.Sihver モデル計算 Our results 統計誤差のみ考慮 検出効率などの補正なし preliminary / 5layers 過去に測定されたCharge changing cross sectionとの比較 = σ(total)-σ(elastic)-σ(neutron removal)
・・・・・・ 検出された飛跡 ピクセル数のカウントによる電荷の分離 Z=1 Z=2 Z≧3 44μm ピクセル 0.3μm× 0.3μm パルスハイト 16層 入射粒子 2次粒子 Z=6 Ekine=430~100MeV/u パルスハイト:プレート1枚あたりの平均ピクセル数
2cm 22cm Ekine=430~100MeV/u 2次粒子の電荷別角度分布 Z=1 Z=2 Z≧3 0.1 0.3 0.5 入射粒子との角度差(tanθ)
2次粒子に含まれる水素原子核(Z=1)の速度分布 Ekine:430~395MeV/u Ekine:395~360MeV/u Ekine:360~325MeV/u Ekine:325~285MeV/u Ekine:285~245MeV/u Ekine:245~195MeV/u 炭素ビームのエネルギー 領域ごとに区別 β パルスハイト⇔dE/dx⇔速度
検出器のアップグレード 2004年12月1日 照射チェンバー 水(H2O)とアクリル(C5H8O2)の複合ターゲット 電荷の区別可能:低感度エマルションの導入 アクリル(厚さ1mm) リフレッシュ ビーム照射後、高温、高湿環境下に エマルションをさらし、潜像を破壊。 2004秋JPS高知 水 水 水 低感度:~1/5 38℃リフレッシュ 2mm 低感度:~1/7 40℃リフレッシュ Normal エマルション
100 77 破砕反応の2次粒子 (多重度2以上) C B 40℃リフレッシュ Be Li He 10.7cm パルスハイト 38℃リフレッシュ Z=6まで電荷識別可能
放医研P152実験 2004年1月マシンタイム 430MeV/u 12C 炭素-水 入射核破砕反応のデータ収集 Ek=430~100MeV/uにおいて断面積を測定した 多重度、電荷、放出角、速度分布も測定 まとめと今後の展開 検出効率などの評価 オフライン処理の改良 2004年12月マシンタイム 400MeV/u 12C :電荷情報を付加 炭素-水、炭素-アクリル反応のデータ収集 飛跡読み取り進行中 データベース化 GEANT4 に組み込まれたQMDに基づく核破砕反応ルーチン(JQMD)の検証、調整 2005年秋:C-Ca,C-P反応のデータ集収
430MeV/u 12C ~12000本 2cm 22cm 青:Z=1,緑:Z=2,赤:Z≧3 3840事象
φ 0 角度依存性 θ依存性:放物線で近似 Ph(θ,φ,dE/dx) =A(dE/dxの3次式)+B(φ,dE/dx)×tan2θ φ依存性:三角関数で近似 B(φ)=-cos(2φ)×(B(90o)-B(0o))/2 + (B(90o)+B(0o))/2 B(φ) B(90o) φ=90° φ=0° B(0o) 実はB(φ)=B(φ,dE/dx) :KEKテストビームの測定結果に合うように滑らかに補間
Track Fiducial Cut 各trackのend pointに対して要求
水中反応の選び出し • ECC : 549 micron • margin : +- 150 micron
Z=1 Z=2 Z=6 ビーム照射後のフィルムを高温・高湿下に さらして、主にデルタ線(電子)が生成した 潜像核を消去する。 リフレッシュ処理による電荷の分離 現像後の飛跡が細くなる δ線~5本/44μm Z=6 ピクセル数 Z=2 180MeV/u 12Cビーム リファレンス Z=1 リファレンス リフレッシュ処理 38℃ R.H.98% 3日 リフレッシュ処理後 ピクセル数
リフレッシュ 2004年12月 40℃リフレッシュ試験 (2次ビーム:2004年5月照射フィルム) He Li Be B 40℃ 30℃ C no refresh 45℃ 38℃ 40℃と38℃(いずれもR.H.98%,3日間)の2種類に決定 2005年1月 水ターゲットチェンバーのフィルムをリフレッシュ処理 リファレンス用2次ビーム照射フィルムも同時に処理 すべて現像を完了した
鉛ECC 400MeV/u 12C OPERA-film(29)+Pb(1mm) +OPERA-film(28)+Pb(1mm)+ … +Pb(1mm)+OPERA-film(1) アクリル窓(厚さ1mm) 100 99 98 37 36 ・・・ 28.75cm 4.65cm スペーサー(厚さ2mm) OPERA-film4枚とアクリル板(厚さ1mm)をパックしたもの
リフレッシュなしフィルムのスキャン 水ターゲットチェンバー、スポット1、3 2.5cm×2.5cm 15000×2スポット=30000本 プレート100から77まで(24層)上流側スキャン完了(1月30日) 上流
Normal エマルション パルスハイト 低感度38℃リフレッシュ 低感度40℃リフレッシュ