370 likes | 647 Views
Физические основы электронной техники. Титул. МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМ. Н.Э. БАУМАНА. Курс лекций: Основы Вакуумной Техники 2 лекция Типовые вакуумные технологии. Деулин Евгений Алексеевич. Понятие вакуум
E N D
Физические основы электронной техники Титул МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМ. Н.Э. БАУМАНА Курс лекций: Основы Вакуумной Техники 2 лекция Типовые вакуумные технологии Деулин Евгений Алексеевич
Понятие вакуум Вакуум - газовая среда с давлением ниже атмосферного (P<Pатм), которая используется в вакуумной технике: Международная единица - 1 Па (Паскаль) 1 Па =1 Н*м –2 = 1 кг* м * с-2 * м-2 Внесистемная единица – 1 Тор 1 Тор = 1мм .рт. ст. = 0,001 м 13590 кг*м-3 *1 м 2 9,8 м * с –2 1 м-2=133,3 Н*1м-2 1Тор = 133,3 Па 1 Па = 0,0076 тор Согласно ГОСТ 8.417-81: 1Па=1Н/м2;1бар=105Па [Н/м2] = 750 мм рт. ст. =750 тор; 1тор=133,3Па.
Некоторые единицы измерения давления, принятые в мировой практике
Pa N/m2 bar mbar mbar dyn/cm2 Torr mmHg micron mTorr atm at MmWS psi lbf/inch2 psf lbf/ft2 Pa 1 1*10-5 1*10-2 10 7.5*10-3 7.5 9.87*10-6 1.02*10-5 0.102 1.45*10-4 2.09*10-2 bar 1*105 1 1*103 1*106 750 7.5*105 0.987 1.02 1.02*104 14.5 2.09*103 mbar 100 1*10-3 1 1000 0.75 750 9.87*10-4 1.02*10-3 10.2 1.45*10-2 2.09 mbar 0.1 1*10-6 1*10-3 1 7.5*10-4 0.75 9.87*10-7 1.02*10-6 1.02*10-2 1.45*10-5 2.09*10-3 Torr 1.33*102 1.33*10-3 1.33 1330 1 1000 1.32*10-3 1.36*10-3 13.6 1.93*10-2 2.78 micron 0.133 1.33*10-6 1.33*10-3 1.33 1*10-3 1 1.32*10-6 1.36*10-6 1.36*10-2 1.93*10-5 1.78*10-3 atm 1.01*105 1.013 1013 1.01*106 760 7.6*105 1 1.03 1.03*104 14.7 2.12*103 at 9.81*104 0.981 981 9.81*105 735.6 7.36*105 0.968 1 1*104 14.2 2.04*103 mmWS 9.81 9.81*10-5 9.81*10-2 98.1 7.36*10-2 73.6 9.68*10-5 1*10-4 1 1.42*10-3 0.204 psi 6.89*103 6.89*10-2 68.9 6.89*104 51.71 5.17*104 6.8*10-2 7.02*10-2 702 1 144 psf 47.8 4.78*10-4 0.478 478 0.359 359 4.72*10-4 4.87*10-4 4.87 6.94*10-3 1 Основные единицы измерения давления, принятые в мировой практике
Использование вакуума в различных технологиях
Использование вакуума в рутинных технологияхоткачки ЭВП( P= 10-0 - 10-4Pa)(вспомним курс ФОЭТ)
Использование вакуума в рутинных и модернизируемых технологиях ЭВП(расширим знания курса ФОЭТ) Схема карусельной откачной машины (машины со средним вакуумом, Р=100-10-1 Па): 1- откачиваемые ЭВП; 2-кулачок управления клапанами; 3-клапан; 4-подвижный диск золотника; 6-механический насос; 7-карусель с Роликами; 8-улита поворотно-фиксирующего механизма; (ПОМ); 9-ось; 10-двигатель привода карусели; 11-манометр.
Условные обозначениянасосов (начало таблицы)
Условные обозначения насосов (продолжение)
Условные обозначения элементов вакуумопроводов
Использование вакуума в современных технологиях
Использование вакуума (10-3Па) в технологии сварки . 1.7 The diagram of the electron beam welding carousel installation: 1- electron gun; 2- spindle with the detail being worked; 3- drive of the spindle vertical transference; 4- rotation motion feedthrough; 5- motor of the spindle rotation; 6- cross wheel for periodical carousel turning (rotation); 7- rotation motion feedthrough.
Использование вакуума (10-5Па) в технологии Электронной литографии Еlectron beam lithography installation based on a hydro drive: 1- work chamber; 2- sluice chamber; 3- light-emitting diodes of raster coordinate counting system; 4- cross pilot-bearing of the coordinate table; 5- hydro drive of cross transference; 6- pilot-bearing of the coordinate table; 7- hydro drive of the coordinate table transference; 8- manual drive of the samples feeder; 9- drive of the gate; 10- drive of the storage drum.
Использование вакуума (10-4Па) в технологии нанесения тонких плёнок Схема установки УВН-73П-2: 1- the arm of the manipulator for the samples loading into vacuum chamber; 2- storage drum; 3-sluice chamber; 4-working drum; 5- vacuum chamber; 6- drive of the arm; 7- gate; 8- evaporator; 9- carrousel ; 10- evaporator screen; 11- gear wheel of working drum; 12,13- the drives of the carrousel and the drum.
Использование вакуума (10-4Па) в технологии нанесения тонких плёнок 1.2a The view of the internal vacuum chamber mechanisms of the thin films coating installation manufactured by Balzers Company[1]: 1-evaporators screens; 2- working drums, 3- drums rotation drive; 4-carrousel.
Использование вакуума (10-4Па) в технологии выращивания монокристаллов Installation based on Chockhralsky method: 1- touch-string of a monocrystal; 2- harmonic drive for the monocrystal touch-string transference; 3- nut-screw drive; 4- drive of the fast touch-string transference; 5-drive of the touch-string rotation; 6- motor of the touch-string transference; 7- motor of the touch-string rotation.
Использование вакуума (10-9Па) в технологии МЛЭ Installation of molecular beam epitaxy: 1,2,3- evaporators; 4- the carrier with the sample; 5,6,7- the screens of the evaporators; 8- linear motion feedthrough for the carrier transference; 9- the samples magazine; 10-the carrier drive; 11- sluice chamber. Fig. 1.11 The general view of the analytical installation of Riber Co.[8]: 1- two freedom degree magnet vacuum manipulator; 2- sluice chamber; 3- inlet vacuum valve; 4- positioning vacuum manipulator; 5- work chamber.
Использование вакуума в современных технологиях
Использование вакуума в современных технологияхповерхностного и структурного анализа The general view of the analytical installation of Riber Co.: 1- two freedom degree magnet vacuum manipulator; 2- sluice chamber; 3- inlet vacuum valve; 4- positioning vacuum manipulator; 5- work chamber.
Использование вакуума в современных методах физико-химического анализа поверхности P= 10-8 - 10-10 Pa 1.EMP (Electron Microprobe) - ЭМА (Электронный Микроанализатор) первичный пучок: электроны; вторичный пучок: электроны (анализ тока); 2.AES (Auger Electron Spectroscopy) - ЭОС (Электронная Оже-спектроскопия) первичный пучок: электроны (20-5000 эВ); вторичный пучок: электроны (анализ энергии); 3.ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) - ЭСХА (Электронная Спектроскопия для хим. анализа) первичный пучок: фотоны Х; вторичный пучок: электроны (анализ энергии); 4.SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry) - ВИМС (Вторичная Ионная Масс-спектрометрия) первичный пучок: ионы; вторичный пучок: ионы (анализ массы); 5.ISS (Ion Scattering Spectrometry) - СПРИ (Спектрометрия рассеявшихся ионов) первичный пучок: ионы; вторичный пучок: ионы (анализ энергии);
Размещение датчиков-анализаторов в вакуумных камерах установок физико-химического анализа поверхности( P= 10-8 - 10-10 Pa) From down left, according clock wise rotation : 1- detector of the secondary ions; 2 -searched wafer -; 3- secondary ions mass-spectrometer; 4- electron gun for Auger analysis; 5- X-ray source; 6- energy analyzer; 7- ion gun; 8- ultra violet source; 9- micro focus electron gun; 10- electron gun; 11- Faraday cup.
Требования к манипуляторам при перемещени датчиков-анализаторов в вакуумных камерах установок физико-химического анализа поверхности( P= 10-8 - 10-9Pa)
Использование вакуума в современных методах физико-химического анализа поверхности P= 10-8 - 10-10 Pa
Использование вакуума в технологии ВИМС (SIMS) анализа поверхности P= 10-9 - 10-10 Pa SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry) - ВИМС (Вторичная Ионная Масс-спектрометрия)первичный пучок: ионы; вторичный пучок: ионы (анализ массы);
Внешний вид установки вторичной ионной масс-спектрометрии «Cameca-4m». Вид вакуумной установки вторичной ионной масс-спектрометрии CAMECA-4m, P= 10-9 - 10-10 Pa
Использование вакуума в новейшем методе анализа поверхностис помощью времяпролётной масс-спектрометрии P= 10-9 - 10-10 Pa При времяпролётной масс-спектрометрии(TOF SIMS) исследуемая поверхность образца бомбардируется импульсным пучком первичных ионов. В результате такого воздействия ионы в атомарном и молекулярном состояниях эмитируют с внешних слоёв поверхности. Их масса определяется временем, за которое они проходят путь от поверхности до детекторного приёмника. Этот процесс длится до тех пор, пока не будет получен полный спектр с высоким динамическим диапазоном.
Вид вакуумной установки времяпролётной масс-спектрометрии P= 10-9 - 10-10 Pa
Использование вакуума в современных технологиях (cборка фотоэлектронных приборов ночного видения P=10-10 Pa, «НПО Геофизика», ул. Стромынка, 18 ) ЭОП поколения 2+ с параллельным переносом электронного изображения с фотокатода на МКП и с МКП на экран в электростатическом поле 1-стекловолоконная или стеклянная пластина ВОП; 2-многощелочной фотокатод; 3-МКП (входная поверхность); 4- МКП (выходная поверхность); 5-катодолюминесцентный экран; 6-стекловолоконный выходной элемент; 7-металлокерамический корпус; 8-индеевое уплотнение;
Результат использование вакуума в технологии cборки приборов ночного видения P=10-10 Pa, «НПО Геофизика», ул. Стромынка, 18, Вид нашлемника с закреплёнными на нём двумя ЭОП поколения 3+ с параллельным переносом электронного изображения с фотокатода на МКП и с МКП на экран
Использование вакуума в технологии cборка фотоэлектронных приборов ночного видения P=10-10 Pa (10 Авторских свидетельств МТ-11, МГТУ им.Н.Э.Баумана).
Использование вакуума P=10-10 Pa в технологии сборки ФЭП(проект МЭЛЗ) 1- work chamber for photo cathode forming; 2- the photoelectron gauge being assembled; 3- stem of the photoelectron gauge ; 4- linear motion feedthrough; 5,6- cryogenic sorption pumps; 7,8- vacion pumps; 9,10- adsorption pumps; 11- rough-vacuum pump.
Использование вакуума в современных технологиях(Установки термоядерного синтеза «Токамак 10», «Токамак 15 », P= 10-5 -10-8 Pa)
Пример проекта по курсу ОВТ «Использование технологии СВЧ накачки Установки термоядерного синтеза «Токамак 15 » в вакууме P= 10-5 -10-6 Pa
Использование вакуума в технологии защиты труб магистральных трубопроводов от «водородной болезни», P= 10-2– 10-4Pa, (Патент МТ-11, МГТУ им. Н.Э.Баумана и примеры фрагментов проектов по ОВТ)
Пример использования вакуума в технологиизащиты труб магистральных трубопроводов от «водородной болезни»(на основе фрагментов проекта по ОВТ)
Использование вакуума в современной ВИМС (SIMS)технологии диагностики отказов труб магистральных трубопроводов, от «водородной болезни» P= 10-10Pa (Патент МТ-11, МГТУ им Н.Э.Баумана) Уважаемые студенты, убедительная просьба не распространять представленный вам материал за пределами МГТУ им Н.Э.Баумана
Рекомендуемая литература 1.Розанов Л.Н. Вакуумная техника. Учебник для высшей школы, 3-е издание, М.- “Высшая школа”, 2007, 391 с. 2. Пипко А.И. и др. Конструирование и расчёт вакуумных систем. М., Энергия, 1970.504с. 3. Вакуумная техника: Справочник. Под редакцией Е.С. Фролова, В.Е. Минайчева. М., Машиностроение, 1992. (Примечание: Конструкции элементов вакуумных систем, представленные в справочнике не рекомендуется для использования при курсовом проектировании) 4.. Механика и физика точных вакуумных механизмов / Под редакцией проф. Е.А. Деулина, т.1.- Владимир, Владим. Гос. Университет, 2001.- 176 с. 5. Механика и физика точных вакуумных механизмов / Под редакцией проф. Е.А. Деулина, т.2.- М. «Интелвак-Вакууммаш» , 2002.- 152 с. 6. Е.А. Деулин, О.А.Румянцева Конспект лекций по Основам Вакуумной Техники на английском языке, МГТУ, 1997г., 67с. 7. Ю.А.Хруничев Е.А.Деулин Э.П.Амосова Расчёт передач движения в вакуум, М., МГТУ.,. !977г. 55 с. 6. Машиностроение. Энциклопедия (в 40 томах). т. 111-8, (Под ред. проф. Ю.В. Панфилова) часть 8.1.5.- М., «Машиностроение», 2000.-с.273-292 7. Руководство к выполнению расчетной части курсовых и дипломных проектов / Учебное пособие для студентов вечернего факультета. – М.:МВТУ, 1985. – 60 с. 8. Целевые механизмы вакуумного технологического оборудования / Атлас типовых конструкций/ Е.П. Аршук, А.И. Беликов, Е.А.Деулин и др. – МГТУ, 1998 . – 68 с.