210 likes | 316 Views
MAGNETOOPTICAL DISC. T.Stobiecki Katedra Elektroniki AGH. 9 wykład 29.11.2004. Material selection: The write and read processes are based on a number of magnetic, magnetooptical and optical propreties: presence of the uniaxial perpendicular anisotropy K u 1/2 0 M S 2 ,
E N D
MAGNETOOPTICAL DISC T.Stobiecki Katedra Elektroniki AGH 9 wykład 29.11.2004
Material selection: • The write and read processes are based on a number of magnetic, magnetooptical and optical propreties: • presence of the uniaxial perpendicular anisotropy Ku1/20MS2, • large room temperature coercivity to provide a high domain stability and storage density • Curie temperature ranging 400KT 550K, • squerness of the thysteresis loop in the high temperature to guarantee perfect swtching chracteristics, • high optical absorption () to produce a sufficiently high local temperature rise, • high Kerr rotation (K) and reflectivity (R) • long term stability. Material properties
Układ okresowy pierwiastków 1 18 1 H1Wodór He2Hel 2 13 14 15 16 17 2 Li3Lit Be4Beryl B5Bor C6Węgiel N7Azot O8Tlen F9Fluor Ne10Neon 3 Na11Sód Mg12Magnez Al13Glin Si14Krzem P15Fosfor S16Siarka Cl17Chlor Ar18Argon 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 4 K19Potas Ca20Wapń Sc21Skand Ti22Tytan V23Wanad Cr24Chrom Mn25Mangan Fe26Żelazo Co27Kobalt Ni28Nikiel Cu29Miedź Zn30Cynk Ga31Gal Ge32German As33Arsen Se34Selen Br35Brom Kr36Krypton 5 Rb37Rubid Sr38Stront Y39Itr Zr40Cyrkon Nb41Niob Mo42Molibden Tc43Technet Ru44Ruten Rh45Rod Pd46Pallad Ag47Srebro Cd48Kadm In49Ind Sn50Cyna Sb51Antymon Te52Tellur I53Jod Xe54Ksenon 6 Cs55Cez Ba56Bar * Hf72Hafn Ta73Tantal W74Wolfram Re75Ren Os76Osm Ir77Iryd Pt78Platyna Au79Złoto Hg80Rtęć Tl81Tal Pb82Ołów Bi83Bizmut Po84Polon At85Astat Rn86Radon 7 Fr87Frans Ra88Rad ** Rf104Rutherford Db105Dubn Sg106Seaborg Bh107Bohr Hs108Has Mt109Meitner Uun110 Uuu111 Uub112 Uut113 Uuq114 Uup115 Uuh116 Uus117 Uuo118 * Lantanowce La57Lantan Ce58Cer Pr59Prazeodym Nd60Neodym Pm61Promet Sm62Samar Eu63Europ Gd64Gadolin Tb65Terb Dy66Dyspoz Ho67Holm Er68Erb Tm69Tul Yb70Iterb Lu71Lutet ** Aktynowce Ac89Aktyn Th90Tor Pa91Protaktyn U92Uran Np93Neptun Pu94Pluton Am95Ameryk Cm96Kiur Bk97Bekerel Cf98Kaliforn Es99Einstein Fm100Ferm Md101Mendelew No102Nobel Lr103Lorens metale półmetale niemetale niemetale: gazy szlachetne pierwiastki jeszcze nie otrzymane • Tablice układu okresowego • Układ okresowy, tablica Wernera: • pokazująca charakter pierwiastków (ta strona) • pokazująca stan skupienia • pokazująca elektroujemność • Układ okresowy, tablica Mendelejewa (forma krótka) • Zobacz więcej • Układ okresowy w Wikipedii (Wolnej Encyklopedii) • Powyższa tablica układu okresowego (forma długa) jest najczęściej obecnie używaną. Została opracowana w 1905 r. przez A. Wernera. Możesz skorzystać także z orginalnej (krótkiej) formy autorstwa D. Mendelejewa (1871 r.). • Symbole chemiczne i angielskie nazwy pierwiastków 104 - 109 zostały zatwierdzone przez IUPAC w sierpniu 1997 r. Podane nazwy polskie zostały ustalone w marcu 1998 przez Podkomisję Nomenklatury Nieorganicznej Polskiego Towarzystwa Chemicznego. • Cały czas pracujemy nad rozwojem zawartości układu okresowego; w chwili obecnej strony pierwiastków z pierwszych 4 okresów oraz srebro, bar, ołów i ununoctium zawierają podstawowe dane o nich (nieraz także szersze informacje, bliższe docelowej formie). Jeśli chcesz aby materiały pojawiały się w częściej i w obszerniejszej formie - przyłącz się i pomóż nam w tworzeniu serwisu.
Composition dependence of magnetization Tb29.9 Fe62.6 Co7.5 Tb27.2 Fe65.5 Co7.3 Tb21.2 Fe71.9 Co6.9 Tb21.2 Fe67.6 Co8.8
Read-out by magneoptical Kerr effect (MOKE) Linear and elliptical of the incident and reflected bem respectively Intensity modulation of reflected light corresponds to the binary information Overwriting by magnetic field modulation (MFM)
MO-disc Land and groove structure is necessary for focusing and tracking of the optical head during disc rotation Layers deposited by sputtering technique Spin coating of lacuer
Sputtering depostion system 500 discs/hour
TIMARIS: PVD Bridge System A Revolutionary Deposition Tool Designed for MRAM/TMR Production The Lowest Surface Roughness Achieved from a PVD System A 300 mm Tool is Available Today
TIMARIS: Tool status Tool #1 – process optimization on 200 mm wafers since mid of March 03 Tool #2 – The Worlds 1st300 mm MRAM System is Ready for Process in August 03 Clean room Multi (10) Target Module Oxidation / Pre-clean Module Transport Module