1 / 16

Кафедра ВЭПТ

«Плазменные покрытия». Кафедра ВЭПТ. Лекция 3. Активируемое лазером или электронным пучком химическое газофазное осаждение покрытий. Фотохимическое газофазное осаждение покрытий.

newman
Download Presentation

Кафедра ВЭПТ

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript

  1. «Плазменные покрытия» Кафедра ВЭПТ Лекция 3 Активируемое лазером или электронным пучком химическое газофазное осаждение покрытий. Фотохимическое газофазное осаждение покрытий. Ла́зер— устройство, использующее эффект вынужденного (стимулированного) излучения для создания когерентного потока света. Луч лазера может быть непрерывным, с постоянной амплитудой, или импульсным, достигающим экстремально больших пиковых мощностей. Обычные источники света, такие как лампа накаливания, излучают свет в разных направлениях с широким диапазоном длин волн. Большинство из них также некогерентны, то есть фаза излучаемой ими электромагнитной волны подвержена случайным флуктуациям. Излучение обычного источника не может, без применения специальных мер, дать устойчивую интерференционную картину. Кроме того, излучение нелазерных источников обычно не обладает фиксированой поляризацией. Напротив, излучение лазера монохроматично и когерентно, то есть имеет постоянную длину волны и предсказуемую фазу, а также хорошо определённую поляризацию.

  2. Использование пучков энергетичных частиц в технологии нанесения тонких пленок дает следующие преимущества: • - высокую пространственную разрешающую способность, • - возможность проведения низкотемпературных процессов, минизирующих влияние температуры на свойства подложки, • - возможность осуществления последовательных этапов обработки подложки без извлечения ее из вакуумной камеры, что уменьшает риск загрязнения и окисления поверхности изделия.

  3. Применения процесса CVD, активируемого или усиленного лазерным излучением. • Ремонт масок и цепей, • Изготовление внутренних соединений, • Производство одноступенчатых омических контактов, • Нанесение твердых покрытий на контролируемые площади, • Образование неравновесных материалов, • Получение материалов с контролируемым размером зерна.

  4. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Свечение объема в котором происходит диссоциация газа лазерным пучком в ходе LCVD

  5. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Таблица 1. Параметры осаждения диоксида и нитрида кремния методом CVD с ассистированием лазерным пучком. (ArF лазер, энергия 100 мДж/импульс, частота 100 Гц, длительность 10 нс/импульс).

  6. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Таблица 2. Параметры осаждения диоксида и нитрида кремния методом CVD с ассистированием электронным пучком.

  7. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Cравнение свойств диоксида кремния полученного методом CVD с ассистированием лазерным пучком и PACVD. Таблица 3

  8. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Сравнение свойств нитрида кремния полученного методом CVD с ассистированием лазерным пучком и PACVD. Таблица 4

  9. Сравнение свойств оксида алюминия полученного методом CVD с ассистированием лазерным пучком с покрытиями полученными распылением Таблица 5

  10. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Сравнение свойств нитрида алюминия полученного методом CVD с ассистированием лазерным пучком с покрытиями полученными распылением и термическим CVD Таблица 6

  11. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Сравнение свойств диоксида кремния полученного методом CVD с ассистированием электронным пучком и плазмоассистированным CVD. Таблица 7

  12. Сравнение свойств нитрида кремния полученного методом CVD с ассистированием электронным пучком и плазмоассистированным CVD. Таблица 8

  13. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Фотохимическое газофазное осаждение покрытий Таблица 9. Длина волны и плотность мощности основных источников УФ излучения.

  14. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Этапы, из которых состоит процесс нанесения покрытия методом PCVD: • - смешивание реагентов в газовой фазе и прохождение химических реакций, • - транспортировка продуктов реакций к подложке, • - адсорбция частиц на подложке и реакции между ними, • - диффузия адсорбированных частиц вдоль подложки, образование пленки. Скорость нанесения покрытия зависит от следующих параметров: температуры процесса, суммарного давления, парциальных давлений газов-реагентов, интенсивности света. Фотоны ускоряют протекание всех этих процессов.

  15. Процесс Photo-CVDPHOTOX (PHOTOX является торговой маркой фирмы Hughes Aircraft Company), впервые описан в 1981 году. Процесс предназначен для получения оксида кремния.

  16. Кафедра ВЭПТ «Плазменные покрытия» Таблица 10. Основные характеристики процесса осаждения SiO2 покрытий методом PCVD.

More Related