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c_c@zju 2014 年 3 月 17 日

模拟 IC 版图设计 及设计规则检查. c_c@zju.edu.cn 2014 年 3 月 17 日. 重新申请端口号. 注意 ： ppt 中部分操作步骤是通过动画展示的，请用放映模式观看。. 账号. eda@zueda. 关闭原端口，注意空格符. 申请新端口. 新端口号. 新端口号不一定和原端口号相同. 不能打开一个 Cellview 或编辑一个 Cellview. 有的时候在一个 Library 中不能打开或编辑某个 Cellview ，这种情况的发生则说明你并没有访问该 Cellview 的权限。 解决方法： 可能设成只读模式

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  1. 模拟IC版图设计 及设计规则检查 c_c@zju.edu.cn 2014年3月17日

  2. 重新申请端口号 注意：ppt中部分操作步骤是通过动画展示的，请用放映模式观看。 浙大微电子

  3. 账号 eda@zueda 关闭原端口，注意空格符 申请新端口 新端口号 新端口号不一定和原端口号相同 浙大微电子

  4. 不能打开一个 Cellview或编辑一个Cellview 有的时候在一个Library中不能打开或编辑某个Cellview，这种情况的发生则说明你并没有访问该Cellview的权限。 解决方法： 可能设成只读模式 design—make editable 可能系统为保护文件自动上锁了 删除该文件夹下相应的.cdslck文件 命令：find –name \*.cdslck | xargsrm 使用 UNIX command chmod来改变你在该Library中的访问权利（用的很少） 浙大微电子

  5. 内容提要 • 版图基本知识 • Virtuoso软件的简介及使用 • 设计规则检查（DRC） • 演示 浙大微电子

  6. 一、版图基本知识 浙大微电子

  7. 什么是版图？ • 版图是集成电路从设计走向制作的桥梁，包含了集成电路尺寸，各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据。 • 集成电路制作厂商（Foundry,如 TSMC、SMIC）根据版图来制造掩膜版。 • 版图设计是创建工程制图的精确的物理描述过程，即定义各工艺层次图形的形状，尺寸及不同工艺层次相对位置的过程。 • 版图数据格式为gds。 浙大微电子

  8. 电路如何转化成芯片？ 芯片 电路 浙大微电子

  9. Layout Chip Mask Die wafer 浙大微电子

  10. 浙大微电子

  11. 浙大微电子

  12. 浙大微电子

  13. 反相器的制作 这里以反相器为例简单的介绍下其制作的基本工艺流程。 这里介绍目前比较普通的N阱CMOS工艺流程，用到的wafer（晶圆）是P型衬底，所以需要用NWELL来构建p沟器件，而n型MOS管就构建在p衬底上。 浙大微电子

  14. 光刻的典型操作步骤 浙大微电子

  15. 第一张mask定义为n-well(or n-tub)mask a)离子注入：制造nwell。 b)扩散：在所有方向上扩散，扩散越深，横向也延伸越多。 浙大微电子

  16. 第二张mask定义为active mask。 有源区用来定义管子的栅以及允许注入的p型或者n型扩散的管子的源漏区。 浙大微电子

  17. 忽略版图中无法体现的一些mask： 诸如channel stop、阈值电压调整等 要介绍的第三张mask为poly mask： 它包含了多晶硅栅以及需要腐蚀成的形状。 浙大微电子

  18. 第四张mask定义为n＋mask，用来定义需要注入n＋的区域。这里的注入为两次注入，首先轻掺杂注入，在栅上生成一层氧化层后再重掺杂注入，形成LDD结构。第四张mask定义为n＋mask，用来定义需要注入n＋的区域。这里的注入为两次注入，首先轻掺杂注入，在栅上生成一层氧化层后再重掺杂注入，形成LDD结构。 浙大微电子

  19. 第五张mask是p＋mask。 p＋在Nwell中用来定义PMOS管或者NMOS体端引出； p＋在Pwell中用来作为欧姆接触。 LDD不必用来形成PMOS，这是因为热载流子在PMOS中受影响小。 浙大微电子

  20. 第六张mask定义接触孔（contact）。 首先腐蚀SiO2到需要接触的层的表面。其次要能够 使金属接触到扩散区或者多晶硅区。 浙大微电子

  21. 第七张mask就是金属1（metal1）了。 需要选择性刻蚀出电路所需要的连接关系。 至此，一个反相器的完整版图就完成了。 • 在更复杂的电路版图中，还会有通孔（via）以及其他层次的金属（metal2,metal3…） 浙大微电子

  22. 二、Virtuoso软件使用版图制作演示 浙大微电子

  23. 模拟集成电路的设计流程 1.交互式电路图输入 2.电路仿真 3.版图设计 4.版图的验证（DRC LVS） 5.寄生参数提取 6.后仿真 7.流片 浙大微电子

  24. Virtuoso软件的简介及使用 Virtuoso是Cadence软件包中的另外一款用于数模仿真，射频、模拟和数字单元设计的定制平台。 主要功能： 1.绘制版图 2.Verilog or VHDL代码编写器 浙大微电子

  25. Virtuoso软件的简介及使用 进入要启动软件的目录 cd fsk_modulator(自己起的名字) source /opt/demo/cdsmmsim7_cal11.env icfb& 浙大微电子

  26. 模拟版图设计步骤 • 创建新版图 • 版图布局 基本单元摆放 尺寸定义 子模块位置 整体布局 • 版图布线 基本单元连线及各模块之间连线 浙大微电子

  27. 创建FSK模拟调制器版图 1.建立新版图 1 2 3 4 浙大微电子

  28. 版图编辑窗口VLE (Virtuoso Layout Editing) 图层选择窗口LSW (Layer Selection Window) 浙大微电子

  29. 创建FSK模拟调制器版图 浙大微电子

  30. 浙大微电子

  31. Layout Editor 菜单（1） 浙大微电子

  32. Layout Editor 菜单（2） 浙大微电子

  33. 创建FSK模拟调制器版图 • 修改显示层次关系 浙大微电子

  34. 创建FSK模拟调制器版图 • 添加 元器件 版图 1 2 3 4 浙大微电子

  35. 创建FSK模拟调制器版图 • 修改元器 件参数（MOS 宽长） 左键选中器件摁 小写q 浙大微电子

  36. 浙大微电子

  37. 创建FSK模拟调制器版图 • 修改元器 件参数（ 电阻阻值） 左键选中器件摁 小写q 浙大微电子

  38. 创建FSK模拟调制器版图 • 使用Layout XL 调用元件 浙大微电子

  39. 创建FSK模拟调制器版图 • 使用Layout XL 调用元件 浙大微电子

  40. 创建FSK模拟调制器版图 浙大微电子

  41. 创建FSK模拟调制器版图 浙大微电子

  42. 浙大微电子

  43. 创建FSK模拟调制器版图 • 连线 快捷键 小写p. 单机拐弯 双击结束 浙大微电子

  44. 创建FSK模拟调制器版图 • Contact 引线孔/接触孔 CT: M1-AA M1-GT M1-NW M1-SN M1-SP M1-SUB 浙大微电子

  45. 创建FSK模拟调制器版图 • Via 通孔 V1: M2-M1 V2: M3-M2 V3: M4-M3 V4: M5-M4 V5:M6-M5 TV2: TM2-M6 浙大微电子

  46. 创建FSK模拟调制器版图 • Via 属性修改 选中后 摁小写q 浙大微电子

  47. 创建FSK模拟调制器版图 添加版图Label 浙大微电子

  48. 创建FSK模拟调制器版图 浙大微电子

  49. 创建FSK模拟调制器版图 浙大微电子

  50. 创建FSK模拟调制器版图 浙大微电子

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