МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光

1. Научно-технологический парк БНТУ «Политехник»白俄罗斯国立技术大学«理工»科技园Научно-инженерное республиканское унитарное предприятие«Полимаг»国家统一企业«聚合材料»科学工程企业 Тема доклада: Формирование сверхгладких бездефектных поверхностей магнитно-абразивным полированием для оптики, лазерной техники, электроники и нанотехнологий 报告题目：磁研磨抛光成型加工超光滑无瑕疵表面，用于光学技术、激光技术、电子技术和纳米技术 www.polimag.icm.by Автор доклада报告的作者: директор НИРУП «Полимаг», к.т.н. Хомич Н.С. 国家统一企业«聚合材料»科学工程企业经理 技术科学副博士 霍米奇.Ｎ.Ｃ

2. МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ磁研磨抛光 Ферроабразивный порошок под действием магнитного поля приобретает вид «эластичной щетки» и полирует поверхность изделия. 铁研磨粉在磁场作用下获得弹性刷状可抛光制品的表面 Импульсное магнитное поле «встряхивает» структуру материала и выводит на поверхность слабозакрепленные дефекты. 脉冲磁场«振荡»材料的结构并将弱加固性缺陷引入表面。 Формируется бездефектный приповерхностный слой. 形成无缺陷性表面层。 Финишное магнитно-абразивное полирование пластин монокристаллов кремния (подложки интегральных схем), оптических стекол и фторидов бария, кальция и магния (оптически активные элементы силовых лазерных устройств) обеспечивает формирование нанорельефа поверхностей с высотой неровностей менее 20-и ангстрем, что соответствует лучшим мировым образцам 最终磁研磨抛光单晶硅片（集成电路基板）、光学玻璃和氟化钡、钙和镁（高功率激光装置光学活性成份）可保证形成表面微地形，表面粗糙度低于20埃米。

3. Привод полюса Катушка Полюс Привод диска Ферроабразивный порошок Пласти-на Опора Диск Станина ПОЛИРОВАНИЕ ДЕТАЛЕЙ ОПТИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ 光电技术零件的抛光 Установка 3905 Схема установки • - диаметр полируемых пластин, мм < 300 • - толщина пластин, мм < 10Примеры применения: • характеристика шероховатости - полирование пластин монокристаллов кремния - • полированной поверхности Ra, нм 0,8 – 2,0 подложек интегральных схем, • - потребляемая энергия, кВт 2,0 - полирование плоских поверхностей оптических • - габариты: L х B х H, м 1,0 х 0,7 х 1,3 стекол, фторидов, керамических и других • - масса, кг 250 материалов оптики и электроники М А Г Н И Т Н О - А Б Р А З И В Н А Я О Б Р А Б О Т К А polimag@mail.ru

4. 磁极驱动 线圈 磁极 磁盘驱动 铁研磨粉 薄片 支架 圆盘 托架 ПОЛИРОВАНИЕ ДЕТАЛЕЙ ОПТИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ 光电技术零件的抛光 安装3905 安装图解 • -抛光板直径，毫米 < 300 • -薄片厚度，毫米 < 10: • 特征粗糙度 • Ra抛光表面，纳米 0,8 – 2,0 • -能耗，千瓦特 2,0 • -尺寸 : L х B х H, м 1,0 х 0,7 х 1,3 • -质量，千克 250 • 应用举例：抛光单晶硅片 - 集成电路基板 – 抛光光学玻璃平面、氟化物、陶瓷及其它光电材料。 磁研磨处理 polimag@mail.ru

5. Изотропность нанорельефа пластины кремния диаметром 150 мм直径为150毫米的硅晶片微地形的各向同性 磁研磨处理 polimag@mail.ru

6. The technology of magnetic-abrasive polishing high-precision flat surfacesMA08 Technical characteristics: Diameter of parts – 20…200 mm Parts thickness – < 5 mm Time of polishing – 2…15 min Power input – 1,5 kW L×B×H – 700×700×500 mm Weight – 80 kg The setup model MA08 is used for ultrathin polishing of high-precision flat parts surfaces of optics, electronics and laser technologies.

7. Пластина монокристалла кремния после полирования в магнитном поле TTV = 2,9 мкм 在TTV = 2.9微米磁场里抛光后的单晶硅板

8. Топограмма поверхности пластины монокристалла кремнияпосле полирования в магнитном поле Ra = 0,72 nm在Ra = 0.72 nm磁场里抛光后的单晶硅板表面内存储信息图示

9. Топограмма поверхности пластины монокристалла CaF2после полирования в магнитном поле Ra = 1,537 nm在Ra = 1.537 nm磁场里抛光后的CaF2单晶硅板表面内存储信息图示

10. Программно-управляемый комплекс для полирования прецизионных поверхностей用于抛光精密表面的程序管理系统

11. The computer controlled magnetic-abrasive polishing technology for optical aspherical surfacesА09 Technical characteristics: Diameter of parts – under 100 mm Time of polishing – 2…15 min Power input – 1,5 kW L×B×H – 700×600×500 mm Weight – 80 kg Technology is intended for correction of polished optical surface figure errors. Correction technique is automatic surface scanning with flexible tool which has reproducible influence function.

12. Интерферограммы поверхности оптической деталидо МАП (а)и после МАП (б)磁化前（a）和磁化后（b）光学零件表面干扰图 • PV=1,349 fr PV=0,370 fr • а) RMS=0,371 fr б)RMS=0,053 fr Power=-1,192 fr Power=-0,130 fr • Ra = 13,9 nm Ra = 1,5 nm • улучшение формы в 3-5 раз за одну итерацию • снижение параметров нанорельефа в 8-10 раз. • 一次迭代内形态改进3-5次。 • 微地形参数降低8-10倍。