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离子注入机简介

离子注入机简介. ★ 离子注入机的种类. ★6200 、 NV10160 、 10180 、 10160SD 简介 离子注入机按照真空系统分为三个部分 SOURCE BEAM LINE END STATION. 各部分包括的控制器. ★ 离子注入的原理 离子源产生的离子在吸极电压的作用下形成束流，以一定的速度进入分析器磁场后受到洛仑磁力发生偏转，选出我们所需的离子，通过加速高压的作用获得一定的能量，离子通过透镜的聚焦后，以一定的扫描方式打入硅片。. ★ 离子源的工作原理

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Presentation Transcript

  1. 离子注入机简介

  2. ★离子注入机的种类

  3. ★6200、NV10160、10180、10160SD简介 离子注入机按照真空系统分为三个部分 SOURCE BEAM LINE END STATION

  4. 各部分包括的控制器

  5. ★离子注入的原理 离子源产生的离子在吸极电压的作用下形成束流，以一定的速度进入分析器磁场后受到洛仑磁力发生偏转，选出我们所需的离子，通过加速高压的作用获得一定的能量，离子通过透镜的聚焦后，以一定的扫描方式打入硅片。

  6. ★离子源的工作原理 当离子源的灯丝通过足够大的直流电流时，灯丝受热后发射的热电子在ARC 电压、源磁场的共同作用下做螺旋状运动与工艺气体碰撞后，工艺气体发生电离产生离子。

  7. ★质量分析器 洛仑磁力： F=qvB R=mv/qB 带电粒子进入磁场受到力的作用后发生偏转。 11B+、 31P+、 40Ar+、 75As+、 121Sb+ 350D：先分析后加速。 NV1080：先加速后分析。

  8. ★Q-LENS 静电四极透镜 静电四极透镜：对离子进行聚焦作用。 加速后的离子在Q-LENS静电四极透镜的作用下被聚焦成较小的束斑。

  9. ★FARADAY SYSTEM FARADAY的作用是测量束流，通过DOSE控制器精确地计量注入到硅片上的剂量。 BEAM SETUP：束流打在FLAG FARADAY IMPLANT：束流打在END STATION（350D） 束流打在DISK （NV1080）

  10. 谢谢！ 2006.8.2

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