1 / 12

ОСОБЕННОСТИ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ СИНХРОТРОННОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С СИСТЕМАМИ, СОДЕРЖАЩИМИ НАНОКРИСТАЛЛЫ КРЕМНИЯ

ОСОБЕННОСТИ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ СИНХРОТРОННОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С СИСТЕМАМИ, СОДЕРЖАЩИМИ НАНОКРИСТАЛЛЫ КРЕМНИЯ. В.А. Терехов 1 , С.Ю. Турищев 1 , К.Н. Панков 1 , И.Е. Занин 1 , Э.П. Домашевская 1 , Д.И. Тетельбаум 2 , А.Н. Михайлов 2 , А.И. Белов 2 , Д.Е. Николичев 2 , С.Ю. Зубков 2.

unity
Download Presentation

ОСОБЕННОСТИ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ СИНХРОТРОННОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С СИСТЕМАМИ, СОДЕРЖАЩИМИ НАНОКРИСТАЛЛЫ КРЕМНИЯ

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript


  1. ОСОБЕННОСТИ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ СИНХРОТРОННОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С СИСТЕМАМИ, СОДЕРЖАЩИМИ НАНОКРИСТАЛЛЫ КРЕМНИЯ В.А. Терехов1, С.Ю. Турищев1, К.Н. Панков1, И.Е. Занин1, Э.П. Домашевская1, Д.И. Тетельбаум2, А.Н. Михайлов2, А.И. Белов2, Д.Е. Николичев2, С.Ю. Зубков2 1 – Воронежский государственный университет, 394006, Университетская пл.1, Воронеж, ftt@phys.vsu.ru, www.phys.vsu.ru/ssp 2 - Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, 603950, Нижний Новгород В.А. Терехов, 2010

  2. АКТУАЛЬНОСТЬ Возможность получения фотолюминесценции в видимом и ближнем ИК диапазоне при комнатной температуре на нанокристаллах кремния Зависимость энергии максимума фотолюминесценции от среднего диаметра наночастиц кремния. [*] Изменение цвета ФЛ при сепарации наночастиц кремния по размеру. [*] * G. Ledoux et. al. Applied Physics Letters, Volume 80, Number 25, 2002, P. 4834 В.А. Терехов, 2010

  3. УЛЬТРАМЯГКАЯ РЕНТГЕНОВСКАЯ СПЕКТРОСКОПИЯ КАК МЕТОД АТТЕСТАЦИИ ЛОКАЛЬНОЙ СТРУКТУРЫ АТОМОВ В ТОНКИХ СЛОЯХ Si L2,3USXES Si L2,3 XANES 5 eV В.А. Терехов, 2010

  4. Свойства и характеристики синхротронного излучения • Большая яркость источника - большая чувствительность и скорость измерений. • Спектр СИ - возможность получения монохроматических пучков рентгеновских лучей с настраиваемой длиной волны в широком диапазоне энергий. • Поляризованность излучения и возможность ей управлять - возможность исследования упорядоченных по спину систем, например магнитных. • Импульсный характер и малая длительность импульсов - возможность изучать быстро протекающие процессы (взрывы, фазовые переходы, химические реакции). • Естественная высокая коллимированность - увеличивается контраст и разрешающую способность.

  5. Наночастицы кремния в матрице SiO2сформированные ионной имплантацией и отжигами Si L2,3 спектры XANES тонких пленок SiO2 содержащих нанокристаллы кремния сформированные при различном числе циклов набора общей дозы имплантации (F=1017см-2) – слева. Справа - XANES спектры структур с дополнительно отожженными пленками SiO2. Ионы кремния (Е = 140 кэВ) и суммарная доза F=1017см-2 имплантировали в тонкие пленки SiO2 (510 нм), полученные термическим окислением пластин c-Si во влажном кислороде. - Образец 01. Доза 1017см-2, однократный отжиг (N2) в течение 2 часов. - Образец 02. Доза 5·1016cм-2, отжиг (N2) в течение 1 часа, два цикла. - Образец 03. Доза 3.3·1016cм-2, отжиг (N2) в течение 40 минут, три цикла. Вторая серия образцов (11, 12 и 13) с предварительным отжигом исходного окисла на воздухе при 1100 C в течение 3 часов перед имплантацией. В.А. Терехов, 2010 Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - 2007. - 38, - P. 16 - 20.

  6. Фотолюминесценцияструктур, содержащих нанокристаллы кремния сформированных отжигом пленок SiOx (а) ФЛспектры исходных пленок SiOx (b, c, d)ФЛ спектры отожженных пленок SiOx (900 - 1100 °C) для трех температур подложки: 250 °C (1), 300 °C (2), 350 °C (3). В.А. Терехов, 2010

  7. Исследования состава пленок SiOx Слева: Si L2,3-USXES спектры исходного порошка SiO (a) и плёнок SiO2:nc-Si/Si, полученных при температуре подложки Ts=250 С с различными температурами отжига: b - без отжига, c - Ta=1000 C, d - Ta=1100C. Сплошные линии - модельные спектры. Справа: спектры эталонов SiO2 SiO1.3 a-Si c-Si Si 2p-спектры XPS пленки SiO2:nc-Si/Si (Ts=300C) после отжига 1100C,подвергнутой послойному ионному травлению В.А. Терехов, 2010

  8. XANES исследования: “эффект обращенной интенсивности” Слева: Si L2,3 XANES спектры пленок SiO2:nc-Si/Si: a - d полученных при температурных режимах Ts=250°C, a) Ta=0°C, b) Ta=900°C, c) Ta=1000°C, d) Ta=1100°C. е - пленка с Ts=350°C и Ta=1100°C. Угол скольжения синхротронного излучения 90°. Справа: Si L2,3 XANES спектры пленок SiO2:nc-Si/Si (Ts=250°C и Ta=1100°C) полученные при разных углах скольжения синхротронного излучения q: a-90°, b-60°, c-30°, d-10°. Q Аномальный спектр квантового выхода и изменение в его поведении при уменьшении угла скольжения может быть объяснено эффектами дифракции или интерференции. Это не учитывается равенством: В.А. Терехов, 2010

  9. XANES исследования: Угловая зависимость для эталонов Q Q XANES Si L2,3-спектры с-Si при различных углах скольжения первичного пучка: a - 10o, b - 30o, c - 60o, d - 90o. XANES Si L2,3-спектры SiO2(60 нм) при различных углах скольжения первичного пучка: a - 10o, b - 30o, c - 60o, d - 90o. В.А. Терехов, 2010

  10. XANES исследования: “эффект обращенной интенсивности” Si L2,3 спектры XANES в структурах LiF/Si/LiF [*] Si L2,3спектры XANES структур SiO2/Si [**] * M. Watanabe et. al. Nuclear science and techniques, Volume 17, Number 5, 2006, P. 257. ** M. Kasrai et. al. Applied Surface Science, Volume 99, 1996, P. 303. В.А. Терехов, 2010

  11. Модель взаимодействия ультрамягкого СИ с системой SiO2:nc-Si 2d sinθ = ½ λ d~3.6÷6.2 нм Модель формирования внешнего фотоэффекта при взаимодействии ультрамягкого рентгеновского излучения со структурой SiO2/SiO2:nc-Si/Si.

  12. Спасибо за внимание Даннаяработачастично выполненана the Synchrotron Radiation Center, University of Wisconsin-Madison, приподдержке NSF грант No.DMR-0537588. Даннаяработавыполненапри поддержке федеральной целевой программы «Научные и научно-педагогические кадры инновационной России» на 2009-2013 годы» В.А. Терехов, 2010

More Related