1 / 9

Задача

Задача. Исследование процесса фотолитографии. Определение прямой задачи. Необходимо произвести нанесение рисунка на печатную плату методом фотолитографии. Формулировка обратной задачи.

xenos
Download Presentation

Задача

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript


  1. Задача Исследование процесса фотолитографии

  2. Определение прямой задачи • Необходимо произвести нанесение рисунка на печатную плату методом фотолитографии.

  3. Формулировка обратной задачи • Необходимо получить рисунок на печатной плате с дефектами, не проявляющимися при приёмке и тестировании при производстве.

  4. Описание системы Очистка поверхности заготовки Нанесение фоторезиста Наложение фотошаблона Травление меди с Пробельных мест Проявление фоторезиста Экспонирование фоторезиста Дальнейшие операции: промывка, прозвонка, лужение КП

  5. Возможные нежелательные явления • Рассмотрим нежелательные явление возникающие в процессе нанесения рисунка • Избыточная ширина проводника, вплоть до появления перемычек . • Ухудшение структуры проводников в результате стравливания «лишних » участков.

  6. Причины появления нежелательных явлений • Неполное растворение фоторезиста при проявлении из-за недостаточного времени проявления. • Оптические эффекты на этапе экспонирования из-за неплотного прилегания фотошаблона к фоторезисту. • Пористость структуры фоторезиста на этапе травления меди из-за его некачественного нанесения.

  7. Опасные зоны • Совмещение фотошаблона. • Время выдержки в проявителе. • Контакт травителя с медью.

  8. Ресурс Время выдержки в проявителе. Зазор между фотошаблоном и платой. Размер пор в фоторезисте. Действие к усилению воздействия Уменьшение времени выдержки. Увеличение зазора. Увеличение размеров пор в результате увеличения зернистости фоторезиста. Ресурсы вредных явлений и их форсирование

  9. Анализ • Наиболее опасным явлением можно считать стравливание «лишних » участков из-за пористости фоторезиста, так как результат его нельзя каким-либо способом исправить.

More Related