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PACK series. チャンバーサイズ Chamber Size. 300 φ× 400L. 発振器パワー RF Generator Power. 1000W. 放電方式 Plasma Source Type. 対向電極方式 または 同軸電極方式 Parallel Electrode or Co-axial Electrode. 処理ガス系 Process Gas. 1系(O 2 )マスフロー制御 1 Line (O2) Mass Flow Controller. 標準ポンプ Vacuum Pump. ドライポンプ Dry Pump. 排気制御

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Presentation Transcript


  1. PACK series チャンバーサイズ Chamber Size 300φ×400L 発振器パワー RF Generator Power 1000W 放電方式 Plasma Source Type 対向電極方式 または 同軸電極方式 Parallel Electrode or Co-axial Electrode 処理ガス系 Process Gas 1系(O2)マスフロー制御 1 Line (O2) Mass Flow Controller 標準ポンプ Vacuum Pump ドライポンプ Dry Pump 排気制御 Exhaust Controller コンダクタンス・コントロール・バルブ(CCV) Conductance Control Valve マイコン制御 Micro-Controller 10レシピ・3ステップ 10 Recipes ・ 3 Step 処理ガス系 Process Gas MAX 3系 Maximum 3 Lines 排気制御 Exhaust Controller オート・プレッシャー・コントローラー(APC) Auto Pressure Controller ヒーティングシステム Heating System ハロゲン・ヒーティング・システム Halogen Heating System EPD エンドポイント・ディテクター Optical End Point Detector 石英ボート,取出し治具 Quartz Boat, Boat Hander Tool 2”φ~8”φウェハー対応,専用テーブル Applicable to 2 to 8-inch wafers, Special Table デスクトップ型アッシング装置 Desktop Plasma Ashing System ■装置概要  本装置はウェハー上のフォトレジスト等 の有機膜の剥離(アッシング)、電子部 品等のドライ洗浄、樹脂等の表面改質を 目的としたデスクトップ型プラズマ処理 装置です。 ■Summary   “PACK series”desktop plasma ashing systems is excellent for ashing of organic layers,such as the photore- sist on silicon wafers;dry cleaning of electronic parts,and changing in quality of resin. ■仕様項目 Specifications ■オプション Option 製造・販売元 YACPS200403/A4F Y.A.C. Co., Ltd. HEAD OFFICE:11-10, Musashino 3-Chome, Akishima-shi, Tokyo 196-0021 PHONE:+81-42-546-1161 FAX:+81-42-546-1107 本社:〒196-0021 東京都昭島市武蔵野3-11-10 TEL.042-546-1161㈹ FAX.042-546-1107 プラズマシステム事業部 Plasma System Div. OFFICE:10-6, Musashino 3-Chome, Akishima-shi, Tokyo 196-0021 PHONE:+81-42-546-2870 FAX:+81-42-546-2867 〒196-0021 東京都昭島市武蔵野3-10-6 TEL.042-546-2870㈹ FAX.042-546-2867 ●YAMANASHI PLANT ●TAIWAN ●SINGAPORE

  2. PACK series ■石英チャンバー Quartz Chamber GAS in 排気 Exhaust ■放電方式 Plasma Source Type ▼対向電極:レート高い,チャージアップ強 Parallel Electrode : High Ashing Rate ▼同軸電極:レート低い,チャージアップ弱 Co-axial Electrode : Weak Charge Up 高周波発振器:13.56MHz RF Generator 高周波発振器:13.56MHz RF Generator 石英チャンバー Quartz Chamber 石英チャンバー Quartz Chamber アルミトンネル Al. Tunnel ■装置全体図 Appearance 1500mm 発振器 RF Generator *テーブル奥行き:1000mm Table Depth ポンプ Vacuum Pump *メンテナンスゾーン:+700mm Maintenance Area Y.A.C. Co., Ltd. 723mm YACPS200403/A4B

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