1 / 12

Установка магнетронного распыления и дугового испарения

Установка магнетронного распыления и дугового испарения. Н.И. Сушенцов. ООО НПЦ « Поиск-МарГТУ ». Износостойкие покрытия. Тонкопленочные нанотехнологии в декоративном убранстве православных храмов. Вакуумные методы получения пленок. Дуговое испарение. Магнетронное распыление.

aldan
Download Presentation

Установка магнетронного распыления и дугового испарения

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript

  1. Установка магнетронного распыления и дугового испарения Н.И. Сушенцов ООО НПЦ «Поиск-МарГТУ»

  2. Износостойкие покрытия

  3. Тонкопленочные нанотехнологиив декоративном убранстве православных храмов

  4. Вакуумные методы получения пленок Дуговое испарение Магнетронное распыление

  5. Установка магнетронного распыления и дугового испарения

  6. Установка магнетронного распыления и дугового испарения

  7. Спасибо за внимание!

  8. Строение (АСМ) поверхности пленок TiN, ZrN

  9. Дуговое испарение

  10. Магнетронное распыление При магнетронном распылении (один из методов ионного распыления, характерной особенностью которого является наличие магнитного поля у распыляемой поверхности мишени, позволяющего локализовать плазму и тем самым повысить скорость распыления) содержание рентгеноаморфной фазы в пленке достаточно велико, т.к. имеет место недостаточная ионизация пленкообразующих частиц

  11. Магнетронное распыление Развитие конструктивных улучшений установок магнетронного распыления (появление несбалансированных магнетронов) позволило значительно расширить область применения метода в различных отраслях. За счет особой конфигурации магнитного поля несбалансированного магнетрона, ионизация рабочего газа и распыленных частиц происходит не только у поверхности мишени, но и на всем протяжении от мишени до подложки

  12. Сканы поверхности и скола пленки AlN

More Related