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Vacuum I ( 진공 기초 )

Vacuum I ( 진공 기초 ). 2005. 1. 5. PJ KODIVAC Ltd. 진공이란. 라틴어 “ Vacua ” 에서 유래 이상적인 진공 상태 : 기체 ( 물질 ) 가 없는 공간 상태 (0 기압 ) “ 대기압보다 낮은 상태의 압력 ” (ISO,AVS 규정 ) - 분자 밀도 : 2.5× 10 19 분자 /㎤ 진공의 필요성 - 깨끗한 환경 제공 : 불순물 , 산화물 제거 등 - 적절한 환경 제공 : TV 모니터 , 입자 가속기 등 적정 진공도 필요

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Vacuum I ( 진공 기초 )

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Presentation Transcript

  1. Vacuum I ( 진공 기초 ) 2005. 1. 5. PJ KODIVAC Ltd.

  2. 진공이란 • 라틴어 “Vacua”에서 유래 • 이상적인 진공 상태: 기체(물질)가 없는 공간 상태 (0기압) • “대기압보다 낮은 상태의 압력”(ISO,AVS 규정) - 분자 밀도: 2.5× 1019분자/㎤ • 진공의 필요성 - 깨끗한 환경 제공: 불순물, 산화물 제거 등 - 적절한 환경 제공: TV모니터, 입자 가속기 등 적정 진공도 필요 - 진공 특성 이용: 진공청소기, 진공 보온병 등

  3. 진공의 단위 및 분류 • 표준 대기압: 0℃ 수은 760 mm, 4℃ 물 10.33 m • 1 기압=760 mmHg=760 Torr=1013 mbar=1.0x105 Pa= 14.7 psi • 1 mmHg=1 Torr=133 Pa = 4/3 mbar • 1 Pa= 1 N/m2= 7.5 x 10-3 Torr • 주요 압력 단위 환산 관계

  4. 진공의 분류

  5. 증착 기술 - PVD (Physical Vapor Deposition) • 스퍼터링 (sputtering) • 진공 증착법 (Evaporation) - CVD (Chemical Vapor Deposition) • 압력: LP-CVD (Low presure CVD), AP-CVD (Atmospheric presure) • 여기 에너지: Thermal, Plasma, Photon, Laser CVD • 반응 재료: MOCVD (Metal organic CVD), MICVD (Metal Inorganic CVD) • 형성되는 박막 용도, 반응실 형태 등에 따라 구분 증착 장비

  6. 진공 시스템의 구성

  7. 진공 펌프 종류 - 작동 압력에 따라 • 저진공 펌프: Rotary oil sealed mechanical pump Sorption pump, Venturi pump, Booster pump • 고진공 펌프: Diffusion pump, Cryopump, Cryotrap Turbo molecular pump • 초고진공 펌프:Titanium sublimation pump, Ion pump - 작동 원리에 따라 • Positive displacement 펌프: Rotary pump, Turbo molecular pump 등 기계식 펌프 • entrapment 펌프: ion pump, cryopump 등 흡착식 펌프

  8. 진공 시스템의 구성

  9. Display 시장 • 삼성 전자 : 7세대 LCD 제 2라인 증설 투자 • LG : 올해 연구개발(R&D) 부문 투자를 작년 대비 42% 늘려 작년보다 26% 확대하는 한편 매출도 작년보다 15% 상향 계획 • 히타치제작소, 마쓰시타전기, 도시바 등 일본 3개사가 공동 출자하는 액정패널 합작사인 IPS알파테크놀로지가 지난 1일 발족 • 삼성전자 : 세계 최대 크기인 TV용 21인치 능동형(AM) OLED를 개발 • 2005년 대형 LCD TV를 통한 큰 성장 예상

  10. 반도체 시장 • 하이닉스 WTO 승소 • 삼성전자 : 메모리 라인 증설 6798억 투자 • 삼익 : 광미디어 사업인 CDR 양산 증설 • 주문형 반도체 디자인 하우스 업체의 적극적 마케팅 예정 - 다윈텍, 상화마이크로, 슬림텍 : 90nm, 0.13㎛ 미세공정 서비스 강화 • 2005년 메모리 분야보다 비메모리 분야의 성장이 예상 - 메모리분야는 플래시 메모리등을 통한 기본적인 성장세 유지 - 비메모리 분야는 휴대폰, 디스플레이 등의 영향으로 활발한 성장

  11. 장비 업체 동향 • 제4기 한국 : 일본 에이테크사에 PCB 장비 공식 대리점 계약 체결 • 주성 엔지니어링 : 대만 청화픽쳐 스튜브(CPT)에 6세대 PECVD 공급 예정 • 한국 DNS : 반도체부문 1200억, 디스플레이 800억 매출, 2005년 세정, 트랙장비 출시예정 • 미래 산업 : 일본 나가세 산업과 양해 각서 체결 면광원 램프 장비, 연성동박적층판 장비 일본 시판 예정 • 에스티아이 : 대만 AUO사(TFT-LCD)에 케미컬중앙공급시스템(CCSS) 공급 수주 대만 지점 설립 예정 • 태창엔지니어링 : 대만 CPT사에 LCD 컬러필터 재가공 장비 수주 • 오성 LST : 중국 비오이티에 LCD장비 공급 계약 체결 → 적극적 해외 시장 진출 통한 수출 다변화로 해외 매출 70%달성 목표

  12. 일반 동향 • 중국, 인도 비약적 성장 - 중국 : 세계 시장 점유율1위 품목 2001년 725개서 2002년 787개 - 인도 : 세계 시장 점유율1위 품목 2001년 99개서 2002년 127개 • 월드베스트만이 살길 • 이등 제품을 키워 일등 제품화 • 블록 단위에서 단일 경제권으로 묶이는 세계 경제 • 미래 산업 : 일본 나가세 산업과 양해 각서 체결 면광원 램프 장비, 연성동박적층판 장비 일본 시판 예정 • 에스티아이 : 대만 AUO사(TFT-LCD)에 케미컬중앙공급시스템(CCSS) 공급 수주 대만 지점 설립 예정 • 태창엔지니어링 : 대만 CPT사에 LCD 컬러필터 재가공 장비 수주 • 오성 LST : 중국 비오이티에 LCD장비 공급 계약 체결 → 적극적 해외 시장 진출 통한 수출 다변화로 해외 매출 70%달성 목표

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