Plasma System for - plasma polymerization - nano application - surface treatment

1. For The Pioneers Plasma System for - plasma polymerization - nano application - surface treatment - semiconductor process - FPD process

2. Plasma Liquid Gas Solid Add energy Plasma system for wide application The most advanced Plasma surface treatment and modification system MINIPLASMA series는 연구개발 전용 플라즈마 시스템으로서 나노, 환경, 신소재, 바이오, 의료, 반도체 및 디스플레이 등의 첨단 분야에서 요구되는 다양하고 까다로운 플라즈마 환경을 빠르고 쉽게 구현할 수 있도록 제작되어 연구자들이 선구적인 연구를 효율적으로 할 수 있도록 도와줄 것이라 확신합니다. 특히 10여년 이상 축적된 플라즈마 발생 및 제어 기술, 플라즈마 진단 기술 등이 바탕이 되어 설계된 MINIPLASMA series는 안정적이고 재현성 있는 실험환경을 제공해 드립니다. 또한 양산장비 관련 기술을 바탕으로 하여 개발되어 장비의 안정성과 편의성, 안전성 등에서 차별화된 가치를 제공합니다. Plasma is …… Positive ion electrically activated gas External electric field Electrons Hot electron Neutral [Ionization] Cold electron physically & chemically activated gas [Electron Heating] Radicals Molecule Hot electron Plasma species [Dissociation]

3. Plasma system for wide application For pioneer of Plasma process engineering part, supply of multiple plasma environment • Convertible electrode • - 하나의 장비로 RIE type 과 PE type 플라즈마를 동시에 구현! • Remote plasma 기능 • - Remote 플라즈마 와 Direct 플라즈마 의 • 손쉬운 전환! High density plasma source (ICP) - 장착 가능한 chamber interface (option) • Pulse operation • - Pulse operation에 의한 다양한 신공정 • 개발 가능 Diagnostic - Plasmart 사의 다양한 계측장비를 용이하게 설치 운영할 수 있는 호환성 Example of plasma process … O O O O+ H H C C C O O O H H O+ O+ O+ O+ O O O+ O O O O O O O O O C C C C H H H H C C C C C C

4. Grid RIE type PE type CCP Remote plasma Grid ICP Addition bottom source ICP Only top source ICP Remote plasma Schematic of multiple plasma sources Capacitively Coupled Plasma source Inductively Coupled Plasma source Radical and plasma density vs ion energy with plasma sources ICP (addition bottom source) Radical density Power generator and matcher Grounded chamber Plasma Substrate Antenna (ICP) Electrode (CCP) Grid (for remote plasma) ICP (only top source) ICP remote plasma CCP remote plasma CCP (RIE type) CCP (PE type) Ion energy

5. Plasma system for wide application Plasma sources • Convertible plasma source • (PE type과 RIE type, remote, ICP source를 쉽게 전환 가능) • Convertible electrode • - 하나의 장비로 RIE type 과 PE type 플라즈마를 동시에 구현! • Electrode 가 상하부에 설치되어 있고 RF feed를 쉽게 상하 전극에 교체 장착할 수 있어 PE type과 RIE type의 플라즈마를 하나의 장비로 구현할 수 있습니다. • [MINIPLASMA 의 플라즈마 source] Inductively Coupled Plasma source (ICP) • - 기본형인 CCP type의 플라즈마 source 이외에도 Plasmart 사의 플라즈마 source 기술에 의해 구현된 고밀도 플라즈마 발생장치인 ICP source (DoSA antenna) 장착이 가능하여 연구 개발의 범위를 극대화 시켰습니다. [DoSATM ICP source] 뛰어난 플라즈마 균일도와 넓은 공정 윈도우는 DoSATM ICP의 특징으로 국내외에 약 30여건의 특허가 출원되었으며 현재 다양한 양산 공정에 사용되고 있는 가장 진보된 ICP source 입니다. [DoSATM ICP의 pressure에 따른 Plasma uniformity 특성]

6. On On OFF [Pulse operation diagram] OFF ON Plasma system for wide application Additional faculty • Elevated Hardware and Convenient Software • Pulsed power and matching operation • 플라즈마 source에 인가되는 RF 전원을 펄스로 인가할 경우 다른 특성을 지닌 플라즈마가 형성됩니다. 이러한 펄스동작 기능은 새로운 공정을 개발할 수 있도록 장비의 능력을 한층 강화시킵니다. • 펄스 플라즈마의 경우 펄스 on 시의 플라즈마 특성과 펄스 off 시의 플라즈마 특성에 많은 차이가 있는데 예를 들면 펄스 off일 경우는 전자온도와 전자 밀도가 낮아져 개스의 해리 특성과 이온화 특성에 차이가 발생합니다. 낮은 전자온도는 식각 공정시 선택비를 높이는 기능을 하며 플라즈마 on/off의 duty 비를 조절함으로써 다양한 펄스 플라즈마를 형성할 수 있습니다. • MINIPLASMA에서는 펄스 동작 기능을 수행할 수 있는 RF 전원과 매쳐(matcher)를 지원합니다. Application process PEALD (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) Selective etching Nano particle generation [size controllable] [ICP source를 Pulse operation할 경우 플라즈마의 특성, MINIPLASMA - Station ICP, SLP 2000로 측정] • Software and GUI for convenience and reliability operation Smart RF matcher control - Advanced linearized algorithm에 기반한 control 로 우수한 matching performance 구현 자동 압력 제어 - 다중 PID 제어를 통한 고성능 자동 압력 제어와 운전 압력 조건 유지 및 재현 실현. Auto dry-N2 vent control - 시료 수납시 one touch vent operation 가능. Chamber cleaning recipe control (option) - One-touch cleaning operation 기능. 플라즈마 parameter monitoring control (option) - 플라즈마 계측 장비 장착시 GUI 화면에 플라즈마 실시간 monitoring 결과 표시 기능. GUI 화면

7. VAP Vaporizer L-MFC Liquid Mass flow controller Flexible accessories 정량제어가 가능한 liquid delivery system Outlet 1/4” VCR fitting Purge liquid inlet 1/4” VCR fitting Liquid source inlet 1/8” VCR fitting Drain 1/8” VCR fitting Liquid mass flow meter를 이용하여 액체상태의 시약을 정량투입 하고, 3-phase diagram 상의 gas phase에 해당하는 조건을 구현하여 투입된 시약을 전량 기화시키는 PLASMART사의 liquid delivery system은 여타 경쟁사 제품에 비해 안정적인 동작원리와 최적화된 구성을 바탕으로 개발되었으며 저렴한 비용으로 액상의 시약을 이용하는 연구에 널리 이용될 수 있습니다. 3-phase diagram 다양한 플라즈마 measurement system의 적용

8. 안전하고 효율적인 실험 환경 제공 • 자동 시스템 채택 • - Touch screen 장착으로 손쉬운 조작성 • - 전기능 one-touch operation • - 개스유량, 압력조절, RF 파워조절 등의 자동제어 • Smart software • - 직관적인 GUI • - 한 화면에 모든 기능의 작동상태와 조작이 가능 • Interlock 기능 강화 • - 조작의 오류로 인한 사고를 방지하는 safety interlock algorithm 탑재 • - 전원, 공압, 냉각수, purge gas 등의 상태를 체크하는 감지센서 탑재 • - emergency alarm 기능 • - 작동상태를 명시하는 operation lamp • bypass, purge line이 구성되어있는 안전한 개스 공급 시스템 • - Toxic (corrosive, explosive) gas 사용시 채택 • - line내의 잔류 gas를 제거하기 위한 안전 시스템 재현성 및 안정성 (reliability) • 실험의 재현성 확보를 위해 보강된 hardware / software • Smart RF matching system • - advanced linearized algorithm에 기반한 micro-stepping motor control • - 우수한 matching performance • 자동 압력 제어시스템 • - 다중 PID 제어를 통한 고성능 자동 압력 제어 • - 손쉬운 공정조건 유지, 재현 • (CDG) capacitance diaphragm gauge 적용 • - 공정개스, 증착등에 영향을 받지않음 • - no-filament • Auto-dry N2 vent system • - 시료 수납시 쳄버환경 유지 • - one-touch vent operation • Wall condition 유지를 위한 liner (option) • - (공정에 큰 영향을 미치는) wall condition을 liner 교체하여 유지 • - 쳄버 클리닝 주기를 연장 • Chamber cleaning recipe 제공 • - 손쉬운 chamber, pumping system 클리닝 • 플라즈마 monitoring system 장착 • - 플라즈마 계측장치 장착가능 • - 실시간 박막측정장치등의 설치가 용이한 포트구성 • - Ion energy analyzer 장착 가능 • 쉬운 유지보수와 신속하고 정확한 A/S • Status 지시기능 탑재 • - warning, error 등의 상태를 명시하는 fault detection 시스템 • - fault시 구체사항의 상태를 손쉽게 확인 • 자가 유지보수가 용이한 module 구성 • - 손쉬운 자가진단, 관리 • One stop A/S 접수 system 운영 • - 즉각적인 A/S 대응 시스템 • A/S tracer 운영 • - internet을 통한 A/S 상황 확인 system

9. Plasma surface treatment &modification system General Plasma Source Outline & dimension (front view) Chamber Pumping & gas supply system Outline & dimension (side view) *세부 사양서는 본사 영업팀으로 요청하시기 바랍니다.

10. Series Lineup 초소형 플라즈마 처리 장치인 MINIPLASMA-cube는 실험테이블 위에 쉽게 설치가능하여 플라즈마 관련 실험을 보다 간단하고 쉽게 수행할 수 있도록 설계 및 제작된 저가형 플라즈마 처리 장비입니다. <specification> General Plasma Source Outline & dimension (front view) Chamber Vacuum System Outline & dimension (side view) *세부 사양서는 본사 영업팀으로 요청하시기 바랍니다.

11. For the Pioneers 대전 광역시 유성구 용산동 543 (대덕테크노벨리 내) 대전 광역시 유성구 구성동 373-1 한국 과학기술원 동문 창업관 4 1 1 3 호 (305-701) TEL : 042) 934 – 2545, 2546, 2547 FAX : 042) 934 – 2524 http://www.plasmart.com , plasmart@plasmart.com