90 likes | 297 Views
Sputter deposition. Arnfríður Hermannsdóttir Baldur Brynjarsson Gabríel Daði Gunnarsson Ragnheiður Guðbrandsdóttir. Hugmyndin. Að mynda örþunnt lag af einstöku efni á yfirborð Aðferðin þróaðist yfir langt tímabil Mikilvægi aðferðarinnar jókst með tilkomu hálfleiðarans
E N D
Sputter deposition Arnfríður Hermannsdóttir Baldur Brynjarsson GabríelDaðiGunnarsson RagnheiðurGuðbrandsdóttir
Hugmyndin • Að mynda örþunnt lag af einstöku efni á yfirborð • Aðferðin þróaðist yfir langt tímabil • Mikilvægi aðferðarinnar jókst með tilkomu hálfleiðarans • Gegnir í dag margvíslegum tilgangi Michael Faraday
Hvað er sputtering? • Aðferð til að mynda þunn lög • Hægt að húða með mismunandi efnum, til skiptis eða samtímis • Hægt að stýra hlutföllum
Tæki • http://www.heraeus-targets.com/en/technology/_sputteringbasics/sputtering.aspx
Stutt hreyfimynd af tækinu í VR3: • http://www.ajaint.com/Images/PHOTOGRAPHS/Other/WhatIs_Anim_Confocal.gif
Notagildi sputtering tækni • Álagþunnrahúða (Thin film deposition) • - Örtækniíhlutir • - Skrauthúð • - Verndarhúð • Útskurður target efnis • - Sniðörtækniíhluta • - Dýptargreining • Yfirborðsmeðferð • - Styrking • - Tæring
Kostir sputtering tækni • Einsleitþykkt • Stýringþykktar • Óbreyttstoichiometría • Efnimeðháttbræðslumark • - T.d. Ti (1668 ºC) • Sami hraðihúðunar • Top - down ræktun • Fjölnota target efni
Algeng target efni • Málmar • Al, Cu, Zn, Au, Ni, Cr, W, Mo, Ti • Málmblöndur • Ag-Cu, Pb-Sn, Al-Zn, Ni-Cr • Oxíð • Al2O3, Cr2O3, SiO2 • Karbíð • TiC, ZrC, HfC, NbC • Nítríð • TiN, Ti2N, ZrN, HfN