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Química Si-F: efeito de adição de O 2

Química Si-F: efeito de adição de O 2. Corrosão de Si com carbofluoretos: corrosão vs. polimerização, como função de razão F/C. CF 4 /H 2 : seletividade de corrosão Si/SiO 2. Adição de H 2  aumenta polimerização, o que

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Química Si-F: efeito de adição de O 2

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Presentation Transcript

  1. Química Si-F: efeito de adição de O2

  2. Corrosão de Si com carbofluoretos: corrosão vs. polimerização, como função de razão F/C

  3. CF4/H2: seletividade de corrosão Si/SiO2 • Adição de H2 aumenta polimerização, o que • diminui a taxa de corrosão de Si (dificultando transporte dos reagentes e dos produtos de corrosão), • mas quase não afeta a taxa de corrosão de SiO2 (a presença do filme de carbofluoretos na superfície de óxido é favorável para corrosão dele, através das reações C + n O  CO, CO2 (n=1,2) • SiFx + m F  SiF4

  4. Corrosão de Si e fotorresiste em misturas contendo Cl e F

  5. Loading effect (a taxa de corrosão depende da área corroída) Origem do efeito: escassez de átomos de F que estão sendo consumidos em reação com Si

  6. Rugosidade de corrosão

  7. Ruptura de estruturas finas no final de corrosão de porta de transistor MOS

  8. Diagnóstico de plasmas reativos (end point): espectroscopia óptica de emissão

  9. Diagnóstico de plasmas reativos (end point):espectroscopia óptica e reflectometria

  10. Diagnóstico de plasmas reativos (end point):espectrometria de massas

  11. Reatores de plasma: plasma remoto e barril

  12. Reatores de plasmas planares:plasma etching vs. reactive ion etching

  13. Reator planar RF : distribuição de potencial

  14. Reator industrial RF (RIE) , configuração do hexodo

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