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Università degli Studi di Trieste Facoltà di Ingegneria Laurea triennale in Ingegneria Elettronica - curriculum Biomedica. UTILIZZO DELLA FOTOLITOGRAFIA NELLA REALIZZAZIONE DI NANOSTRUTTURE PER LO STUDIO DELL’INTERAZIONE CELLULA-SUBSTRATO. Relatore: Laureando:
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Università degli Studi di Trieste Facoltà di Ingegneria Laurea triennale in Ingegneria Elettronica - curriculum Biomedica UTILIZZO DELLA FOTOLITOGRAFIA NELLA REALIZZAZIONE DI NANOSTRUTTURE PER LO STUDIO DELL’INTERAZIONE CELLULA-SUBSTRATO Relatore: Laureando: Chiar.mo Prof. Orfeo SBAIZERO Matteo MENOLOTTO Correlatore: Ing. Barbara CODAN
Motivazioni Maggiore risposta elettrochimica nei neuroni cresciuti su nanotubi di carbonio • Gabriel A. Silva. “Shorting neurons with nanotubes”. Nature Nanotechnology 4, 82-83 (2009). … in che misura la morfologia del nanotubo influisce?
Scopo del lavoro • Costruzione di un dispositivo per test in: • Vetro soda lime • Quarzo • Tramite: • Fotolitografia tradizionale • Litografia laser
Il dispositivo progettato dovrà simulare la morfologia dei nanotubi • Chimica → carbonio • Fisica → conducibilità • Dimensioni → nano
Fasi operative Progettazione del pattern Caratterizzazione parametri litografici Caratterizzazione etching Analisi SEM e AFM
Tecniche litografiche utilizzate LITOGRAFIA LASER FOTOLITOGRAFIA TRADIZIONALE
Formazione delle punte AVANZAMENTO DELL’AZIONE DI ETCHING SUL MATERIALE. IN EVIDENZA LA PUNTA FORMATA DALLA CORROSIONE ISOTROPA DEI TRE PUNTI EQUIDISTANTI.
… parte della Strumentazione La strumentazione utilizzata per la litografia laser consiste in uno spettroscopio Raman
Fase 1: progettazione del pattern Litografia laser Fotolitografia
Preparazione campione • Procedure di pulizia: • Lavaggi in acetone caldo • Isopropanolo • Soluzione piraña • Preparazione substrato: • Spinning photoresist • Fase di bake
Fase 2: caratterizzazione parametri litografici Litografia laser • Risoluzione massima con: • luce verde a l = 514.5 nm • NA = 0.85 del 100x Potenza sufficiente a depolimerizzare il photoresist.
Pur usando una lunghezza d’onda non ottimale la litografia è avvenuta con successo! Assorbanza resist S 1813 Potenza per fori con diametro 3 mm 3.80 mWcon filtro ND di 0.5% e obiettivo con NA di 0.85
Fotolitografia tradizionale Settaggio eseguito con maschera preesistente Esposizione luminosa → 30 s Sviluppo → 45 s
Fase 3: caratterizzazione etching Eseguita su soda lime tramite profilometroTalysurf CLI 1000 Soluzione ottimale HF 1:50 Rate 0.22 mm/min
Accorgimento tecnico • Caratterizzazione resistenza photoresist all’azione di etching: • S1813 • S1818 • S1828 • Rivestimento di cromo • tramite due tecniche: • Magnetronsputtering • CVD
Procedura di etching Iniziale caratterizzazione su vetrino di soda lime, MOTIVAZIONI: Grande Abbondanza e Basso Costo … MA Poca precisione in fase litografica Bassa ripetibilità (Composizione → 60-75% SiO2 )
Utilizzo del quarzo Miglior precisione in fase di etching Soluzione scelta → BOE (rate da letteratura) SiO2 + 6HF → H2SiF6 + 2H2O
Fase 4: analisi SEM e AFM Analisi AFM del campione ottenuto con litografia laser
Risultati Perfezionamento fase di etching e dimensioni 3 mm Etching incompleto 3 mm
Primi test cellulari Deposizionecellule del tipo fibroblasti 3T3 Disposizione lungo le lame tra le punte e sulle punte stesse!
Considerazioni finali e applicazioni future • Conoscenze acquisite: • Caratterizzazione potenze laser • Caratterizzazione etching • Caratterizzazione tempistiche litografiche !Scenari futuri! • Creazione dispositivi test biologici (coating carbonio) • Creazioni dispositivi test elettrici (coating oro) • … www.studiostarita.it