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KrF*

10. Kr. +F. +. -. エネルギー. (eV). エキシマ. 5. KrF*. レーザ光. KrF. Kr+F. 解離. (nm). 0.1. 0.7. 原子核間距離. 2.4 エキシマレーザ. エキシマ (excimer) ：励起状態でのみ存在できる分子. Ar:Kr:F 2 =90:9.5:0.5. 放電励起 Ar + e → Ar* + e Kr + e → Kr* + e Ar* + F 2 → ArF* + F Ar F*+ Kr → KrF* + Ar.

roger
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Presentation Transcript

  1. 10 Kr +F + - エネルギー (eV) エキシマ 5 KrF* レーザ光 KrF Kr+F 解離 (nm) 0.1 0.7 原子核間距離 2.4 エキシマレーザ エキシマ(excimer)：励起状態でのみ存在できる分子 Ar:Kr:F2=90:9.5:0.5

  2. 放電励起 Ar + e → Ar* + e Kr + e → Kr* + e Ar* + F2 → ArF* + F Ar F*+ Kr → KrF* + Ar ＠　基底状態において分子を形成しにくいもの，すなわちエキシマになりうる分子 　　　希ガス同士　or　希ガス＋ハロゲン ＠　下位準位の分子は自然に解離するため下位準位は常に空っぽ ＠　波長が紫外域で大出力，高効率の可能性がある ＠　エキシマの自然寿命は約10nsであるため，立ち上がりの速い短パルス高電圧源によるポンピングが必要 ＠　紫外光は分子結合を直接切断できる

  3. エキシマレーザ光の応用 ＠　高速度の微細加工（レーザ光が照射された個所のみ瞬間的に加工) 　　＠　LSI加工（被加工物を加熱しない) 　　＠　レーザ核融合(高効率・大出力が可能）

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