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Laboratorio di Elettronica Quantistica e Plasmi (EQPL). R&D – Sorgenti laser di alta potenza Fra le attività dell’ EQPL (Elettronica Quantistica & Plasmi Lab), una delle principali è relativa alla ricerca ed allo sviluppo di laser di elevata potenza, nonché alle loro applicazioni.
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Laboratorio di Elettronica Quantistica e Plasmi (EQPL) R&D – Sorgenti laser di alta potenza Fra le attività dell’ EQPL (Elettronica Quantistica & Plasmi Lab), una delle principali è relativa alla ricerca ed allo sviluppo di laser di elevata potenza, nonché alle loro applicazioni. Le due sorgenti a stato solido su cui si sono incentrati gli sforzi di questi anni di lavoro sono: • una sorgente impulsata con oscillatore Ti:Sa (Titanio Zaffiro); • una sorgente Nd:YAG/GLASS; Le immagini che seguono si riferiscono riapettivamente alla prima ed alla seconda. _._._._._._._._._._ In particolare l’oscillatore Ti:Sa emette impulsi UV di durata di 15 ns ad una lunghezza d’onda centrata intorno agli 800nm con una energia di circa 5nJ. Il sistema al momento è dotato di due stadi di amplificazione che dovrebbero consentire di ottenere un guadagno in uscita dal sistema pari ad un fattore 1000 milioni di volte superiore. La sorgente Nd:YAG/GLASS è costituita da un oscillatore Nd:YAG e quattro amplificatori di: cui due Nd:YAG e due Nd:GLASS. L’impulso che esce dalla sorgente ha una durata di circa 15ns ed una energia intorno a 10J. _._._._._._._._._._ Applicazioni Generazione di plasmi da interazione laser-materia e conseguente emissioni di Raggi X molli ↓ Imaging X Le piccole lunghezze d’onda disponibili consentono di ottenere immagini ad alta risoluzione con applicazioni in campi svariati quali: BIOSCIENZE, NANOSCIENZE, NANOTECNOLOGIE, INGEGNERIA DEI MATERIALI, SICUREZZA, ETC. richetta@uniroma2.it