1 / 24

Monolit technika

Monolit technika. Bipoláris technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET 2006-2013. Bipoláris technológia. ~1960- tól alkalmazzák (TTL) Bevezetésének érdekessége: logikai tervezés Manapság analóg áramkörök technológiája A következő képek nem méretarányosak!

gail-mullen
Download Presentation

Monolit technika

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript


  1. Monolit technika Bipoláris technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET 2006-2013

  2. Bipoláris technológia • ~1960- tól alkalmazzák (TTL) • Bevezetésének érdekessége: logikai tervezés • Manapság analóg áramkörök technológiája • A következő képek nem méretarányosak! • laterális méret: 100 m • vertikális méret: 1-10 m

  3. npn tranzisztor előállítása I. • Eltemetett réteg (n+) kialakítása p tip. hordozóban • Ez a dinamikus ellenállást (rd) csökkenti • 1. maszk

  4. npn tranzisztor előállítása II. • Epitaxiális réteg (n) kialakítása • Ez lesz majd a kollektor

  5. npn tranzisztor előállítása III. • Szigetelő diffúzió (p+) • Elkülöníti a különböző tranzisztorokat egy szeleten elektromosan • 2. maszk

  6. npn tranzisztor előállítása IV. • Ablaknyitás, és p diffúzió • Ez fogja szolgáltatni a bázist • 3. maszk

  7. npn tranzisztor előállítása V. • Ablaknyitás, és n+ diffúzió • Ez fogja adni az emittert, és a kollektor kivezetést • A kollektornál az n+ réteg a Schottky átmenet kiürített rétege kicsi legyen (a réteg egy potenciálgát, de ha elég kicsi, akkor alagúthatás révén az elektronok átlépik) • 4. maszk

  8. npn tranzisztor előállítása VI. • Kontaktusablak nyitás • E, C, B részére • 5. maszk

  9. npn tranzisztor előállítása VII. • Fémezés és megmunkálása • 6. maszk • A kapott struktúra jellemzése: • E erősen adalékolt • B keskeny • B-ben van beépített tér (diffúzió révén) • n+ réteg a rd csökkentéséért

  10. A koncentráció eloszlásfüggvénye I. • A bázis bépített tere: • U=26mV*ln100=120mV • x=1m • E=U/x=120 kV/m

  11. A koncentráció eloszlásfüggvénye II. • Itt van egy pnn+p parazita tranzisztor • Az n+ a lyukak terjedését gátolja, ezzel a parazita tranzisztor ellen is védi a struktúrát

  12. A koncentráció eloszlásfüggvénye III. Az np+ átmenet letörhet!

  13. Laterális pnp tranzisztor • n+ réteg a pnp parazita tranzisztort gátolja • Hátrányok: • emitter nem erősen adalékolt • bázis homogén • oxid közelében folyik az áram  oxid közelében kristályhibák vannak nagy rekombinációs centrum • B áramerősítési tényező kicsi

  14. Javítások az pnp laterális tranzisztor hibáira • Emitter - kollektor közötti hasznos felület növelése (áthaladó elektronok száma nő) • B növelése: kompozit fokozat alkalmazása Kollektor Bázis Emitter

  15. A pnp tranzisztor előnye • Az npn tranzisztorral szemben az emitter-bázis letörési feszültsége nagy, akkora mint a bázis-kollektor letörési feszültsége.

  16. Vertikális pnp tranzisztor • Szubsztrát tranzisztornak is nevezik, mivel a szubsztrát egyben a kollektor is • E-B letörési feszültsége nagyobb • Kisebb a transzport hatásfok (bázis homogén) • Kisebb az emitter hatásfok (emitter gyengén adalékolt) • 1 szeleten csak ez az egy tranzisztor lehet (kollektor a szubszrát)

  17. Bázis ellenállás • Csonka bipoláris tranzisztor (nincs C, E) • n+ réteg a parazita pnp tranzisztor ellen véd • R=100Ω...1kΩ (Az adalékolás határozza meg.)

  18. Adalékolás-ellenállás viszony • A bázis (p)  Gaussi görbe szerinti az adalékolása (a skála logaritmikus  parabola) • Egy W szélességű, L hosszúságú ellenállásszakasz vezetése: • Vezetés 1 térrészre: (ahol xj a pn átmenet határa) • Ellenállás egy térrészre: (ahol Rs 1 négyzetnyi ellenállásrész ellenállása) • Rs értéke csak a □ alatti adalékatomok számától függ pontos eloszlásuknak nincs jelentős hatása az Rs-re • RsSi=100Ω...150Ω (20% a tűrés)

  19. Megnyomott ellenállás • a felső n+ réteg hatása: • adalékolás „elrontása” • rekombinációs centrum • A kapott ellenállás négyzetes ellenállása: • Rs=10kΩ...50kΩ (100% a tűrése, mivel 2 diffúzió különbsége állítja be) • Egy parazita JFET is van itt! • Az áram feszültséget kelt az n+ alatt • Kiürített réteg alakul ki n+ alatt • Az áram növelése ezt a hatást csak fokozza • Áramgenerátort valósít meg a JFET • Mivel az ellenállások abszolút értéke nagy szórással bír, az ellenállások arányára kell hagyatkozni

  20. Emitter ellenállás • Kis ellenállású • Átvezetésként szokás használni • Jó nagyteljesítményű tranzisztorok párhuzamos kötésénél nyitófeszültség eltolására • Rs~1Ω

  21. Epitaxiális réteg ellenállás • n+ eltemetett réteg nincs, mivel az ellenállás értékét nagyon lecsökkentené

  22. Ellenállások fajtái Epitaxiális réteg ellenállás Bázis ellenállás Megnyomott ellenállás Meander bázis ellenállás Emitter ellenállás

  23. E-B dióda • Bázis és a kollektor összekötésével a bázis és az emitter közötti dióda használható

  24. Bipoláris tranzisztorok fajtái Az E-B élhossz azért ekkora, mert ha IE nagy, akkor IB is nagy, és ekkor az IB az emitter alatt nagy feszültséget kelt  csak az E-B él a hasznos a működés szempontjából, az emitter „közepe” nem (áramkiszorulás) Teljesítmény tranzisztor Laterális pnp tranzisztor Multiemitteres tranzisztor

More Related