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Ashing System ～ Barrel Type ～

Ashing System ～ Barrel Type ～. Line up. DES-220-459AVL （ Ultima). φ8 inch 専用機 生産性を重視し Wafer 自動搬送機付き. DES-212-304AVLⅢ （ 304AV ）. φ6 inch 以下用装置 生産性を重視し Wafer 自動搬送機付き（ AVLⅢ ）. PACKⅠ ・ Ⅱ ・ Ⅲ ・ Ⅳ. 1 　チャンバーのシンプルな構成 minimum footprint, 低コストバージョン. ガス導入. ガス導入. Wafer. Wafer. 給電電極. 給電電極.

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Ashing System ～ Barrel Type ～

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  1. Ashing System～Barrel Type～

  2. Line up • DES-220-459AVL（Ultima) φ8 inch 専用機 生産性を重視しWafer自動搬送機付き • DES-212-304AVLⅢ（304AV） φ6 inch 以下用装置 生産性を重視しWafer自動搬送機付き（AVLⅢ） • PACKⅠ・Ⅱ・Ⅲ・Ⅳ 1　チャンバーのシンプルな構成 minimum footprint, 低コストバージョン

  3. ガス導入 ガス導入 Wafer Wafer 給電電極 給電電極 Q'zチャンバー Q'zチャンバー GND電極 GND電極 ウェーハボート ウェーハボート To pump To pump 電極形状 対向電極方式 同軸電極方式

  4. DES-220-459AVLULTIMAⅢ 処理基板サイズφ8 inch 100枚/2Chamber　処理 Wafer loader / unloader 搭載 同軸電極方式 アッシングレート： 350[Å/min]　以上 均一性(面内）： ±20 [％] 均一性(バッチ内）： ±10 [%]

  5. DES-220-459AVLULTIMAⅢ

  6. DES-212-304AVLⅢDES-212-304AV φ5 or 6 inch Wafer 処理装置 Wafer Loader / Unloader 搭載(AVLⅢのみ) 1バッチ50枚処理/チャンバー 2チャンバー構成 フットプリント 1290W×1470D×1980H [mm] (AVLⅢ) 1000W×900D×1730H [mm] (AV) ※写真はAVLⅢ

  7. DES-212-304AVLⅢDES-212-304AV ～Ashing Rate & Uniformity～ 処理基板サイズ：φ5 or 6 inch 電極構成：同軸電極方式 or 対向電極方式

  8. PACKSeries 1チャンバー構成 低Coo minimum footprint ※　外形寸法は台を含む

  9. Ashing Rate ～φ8inches Wafer Normal Resist Data～ ガス圧力依存性 ガス流量依存性

  10. Ashing Rate ～φ6inches Wafer Normal Resist Data～ ガス圧力依存性 ガス流量依存性

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