Pair-monitor Simulation

1. Pair-monitor Simulation 2008/08/06 Tohoku Y.Sato

2. Pair-monitor の設置位置について PM CH2 Mask 設置位置を変更したのは、PM と BCAL の回路を共通に するため。 しかし、CH2Mask 置いたのはBCAL からのbackscatteringを 減らすために置いたのではないのか？ • PM の位置、CH2 Mask の厚さを考える。 BCAL IP CH2 Mask BCAL IP

3. PM に Hit した粒子の経路 IP から直接飛んできた e+e- 散乱して前方から飛んできた e+e- Backscattering signal B.G (?) B.G まずは、PM を Mask の後ろに置いた場合で、 B.G を取り除く方法を考えた。

4. γ の cut • γ はEDep の小さいものが多い。 • EDep < 40 [KeV] で cut すれば、γ を取り除ける。 粒子別のPMのEDep分布 粒子別のPMのEDep分布

5. Backscattering の cut EDep < 40 [KeV] EDep > 120 [KeV] EDep > 40 [KeV] EDep > 120 [KeV] の範囲では、B.G が多い。 で cut すればB.G を多少取り除ける。 e+e-のEDep 分布 e+e-のEDep 分布 黒 : IPから直接飛んできたもの(signal) 赤 : 散乱して前方から飛んできたもの 緑: backscattering(B.G) 黒 : IPから直接飛んできたもの(signal) 赤 : 散乱して前方から飛んできたもの 緑: backscattering(B.G)

6. Backscattering の cut Backscattering のみのHit 分布 ビームパイプの周りに多く Hit している。 ビームパイプの周りを cut すれば backscattering が取り除ける。

7. Cut EDep の cut は signal をあまり落とさずに B.G を取り除いている。 半径R の cut は signal が落ちているわりにB.G は取り除けていない。 これらがどのようにPMの測定精度に 関わってくるかを考えていかなくてはいけない。