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TECNICAS DE FABRICACION DE SEMICONDUCTORES

TECNICAS DE FABRICACION DE SEMICONDUCTORES. Ing. Christian Aldaco. Ariana Ortiz Dario Lopez Sergio Avalos Felipe Cedillo Rebeca De la Rosa. Instituto Tecnológico de Saltillo. Instituto Tecnológico de Saltillo. Instituto Tecnológico de Saltillo. CONTROL DE CONTAMINACION EN ‘FABS’.

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TECNICAS DE FABRICACION DE SEMICONDUCTORES

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Presentation Transcript

  1. TECNICAS DE FABRICACION DE SEMICONDUCTORES Ing. Christian Aldaco Ariana Ortiz Dario Lopez Sergio Avalos Felipe Cedillo Rebeca De la Rosa Instituto Tecnológico de Saltillo

  2. Instituto Tecnológico de Saltillo

  3. Instituto Tecnológico de Saltillo

  4. CONTROL DE CONTAMINACION EN ‘FABS’

  5. Instituto Tecnológico de Saltillo

  6. Instituto Tecnológico de Saltillo

  7. Instituto Tecnológico de Saltillo

  8. PREPARACION DE OBLEAS

  9. Instituto Tecnológico de Saltillo

  10. METODO DE CZOCHRALSKI

  11. Instituto Tecnológico de Saltillo

  12. Instituto Tecnológico de Saltillo

  13. MECANICA QUIMICA DE PLANARIZACION

  14. Instituto Tecnológico de Saltillo

  15. PREPARACION DE OBLEAS

  16. OXIDACION TERMICA • Seca • Húmeda

  17. Instituto Tecnológico de Saltillo

  18. Instituto Tecnológico de Saltillo

  19. Instituto Tecnológico de Saltillo

  20. Instituto Tecnológico de Saltillo

  21. DEPOSICION • Química • Física

  22. Instituto Tecnológico de Saltillo DEPOSICION QUIMICA DE VAPOR

  23. Instituto Tecnológico de Saltillo DEPOSICION FISICA DE VAPOR

  24. METALIZACION

  25. Instituto Tecnológico de Saltillo

  26. TECNICAS PARA EVAPORAR UN METAL

  27. Instituto Tecnológico de Saltillo S P U T T E R I N G

  28. Instituto Tecnológico de Saltillo 1 2 Filamento de tungsteno. De cada espira del filamento se cuelga un pequeño trozo de aluminio. En un crisol de nitrurode boro se calienta el Al mediante inducción RF. 3 Filamento suministra un haz de electrones, son acelerados por un campo eléctrico y conducidos hacia la superficie del metal donde al chocar producen la evaporación del metal.

  29. FOTOLITOGRAFIA

  30. Instituto Tecnológico de Saltillo

  31. Instituto Tecnológico de Saltillo Previo al proceso de fotolitografiase puede usar aerosol o vapor para promover la adhesión de la fotorresistencia a la superficie de la oblea.

  32. GRABADO

  33. Instituto Tecnológico de Saltillo

  34. Instituto Tecnológico de Saltillo P A R A M E T R O S Tipo de Cambio Perfil Sesgo Forma más rápida graba una película de otra película. Selectividad

  35. Instituto Tecnológico de Saltillo Uniformidad Residuos Formación Polímero Plasma

  36. GRABADO EN SECO

  37. Instituto Tecnológico de Saltillo

  38. Instituto Tecnológico de Saltillo

  39. GRABADO HUMEDO

  40. Instituto Tecnológico de Saltillo

  41. PROCESO DE GRABADO

  42. IMPLANTACION IONICA

  43. Instituto Tecnológico de Saltillo

  44. PROCESOS DE DOPAJE

  45. Instituto Tecnológico de Saltillo

  46. Instituto Tecnológico de Saltillo

  47. BIBLIOGRAFIA • Semiconductor Manufacturing Technlology • (Michael Quirk & Julian Serda)

  48. Instituto Tecnológico de Saltillo

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