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Ricoperture CVD da acetilacetonati. OCIV/LAM Nanotech. Deposizione controllata. Riscaldamento graduale in forno Tempo di processo prolungato Diffusione ascendente e discendente. Carico. Camera per vuoto da 1000 cm3 Pompa per vuoto Balzers
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Ricoperture CVD da acetilacetonati OCIV/LAM Nanotech
Deposizione controllata • Riscaldamento graduale in forno • Tempo di processo prolungato • Diffusione ascendente e discendente
Carico • Camera per vuoto da 1000 cm3 • Pompa per vuoto Balzers • Carico in beuta con con provetta coperta con bicchiere per corrente ascensionale e discensionale dei vapori
Precursore • FeIII(acac) sintesi OCIV LiLu2
Dispositivo di reazione • Ricopertura di vetro e di spongiosa
Risultati • Prova 1: ricopertura di vetro Ricopertura intensa e stabile sulla beuta, molt spessa e non del tutto aderente sulla provetta, sottile e molto aderente sul bicchiere. Nessun resto di carbone!
Risultati • Prova 2: ricopertura di spongiosa Sezione interna: ricopertura completa ma probabilmente eccessiva (otturazione di canali)
Risultati • Prova 2: ricopertura di spongiosa Sezione interna: ricopertura completa ma probabilmente eccessiva (otturazione di canali)
Conclusioni • Per evitare una ricopertura eccessiva caricare i cubetti di spongiosa tra provetta e bicchiere capovolto per un’esposizione alla corrente discensionale