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Charla de avance de la Maestría en Física del Instituto Balseiro. 27 de Mayo de 2008. San Carlos de Bariloche, Río Negro. Argentina. “Superredes Superconductor Magnético”. Ghenzi Nestor Fabian. Grupo de Bajas Temperaturas. Centro Atómico Bariloche. CNEA y Universidad Nacional de Cuyo.
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Charla de avance de la Maestría en Física del Instituto Balseiro. 27 de Mayo de 2008. San Carlos de Bariloche, Río Negro. Argentina. “Superredes Superconductor Magnético” Ghenzi Nestor Fabian. Grupo de Bajas Temperaturas. Centro Atómico Bariloche. CNEA y Universidad Nacional de Cuyo. ghenzin@ib.cnea.gov.ar
Descripción de las muestras tNb [nm] 150 30 20 20 20 20 20 20 tCo [nm] 0.0 0.7 1.0 1.5 2.5 5.0 7.5 10.0 A las muestras con tCo menor a 5 nm se les agregó en los dos extremos capas de 5 nm de manera de eliminar la aparición de superconductividad de superficie.
Caracterización estructural: rayos x tNb 3 nm; tCo 3 nm (16 periodos) Co FCC (100) Nb BCC (110) Alto ángulo
Caracterización estructural: rayos x tNb 3 nm; tCo 3 nm (16 periodos) Co FCC (100) Nb BCC (110) Se obtuvo L= 5.6 +/- 0.5 nm Alto ángulo Fiteo Bajo ángulo
Caracterización estructural: rayos x tNb 3 nm; tCo 3 nm (16 periodos) Co FCC (100) Nb BCC (110) Se obtuvo ttotal = 95.0 +/- 2.5 nm Bajo ángulo Alto ángulo Bajo ángulo Fiteo
Caracterización magnética:Magnetización vs. Temperatura Para espesores de Co mayores que 1.5 nm. no se observa superconductividad con el squid.
Caracterización magnética:Estado Superconductor • Del Loop superconductor se puede calcular la corriente crítica como
Caracterización magnética:Estado Superconductor • Del Loop superconductor se puede calcular la corriente crítica como
Preparación del pattern • Se quiere medir densidad de corriente critica (Jc) y voltaje Hall. Para esto se realiza un pattern.
Preparación del pattern • Se quiere medir densidad de corriente critica (Jc) y voltaje Hall. Para esto se realiza un pattern. • Se aplica un recubrimiento con photoresist Microposit 1400 por medio de litografía óptica. • Luego se ataca por medio de la técnica RIE con diclorodifluorometano(Cl2F2CH4) • Soluciones
Preparación del pattern • Se quiere medir densidad de corriente critica (Jc) y voltaje Hall. Para esto se realiza un pattern. • Se aplica un recubrimiento con photoresist Microposit 1400 por medio de litografía óptica. • Luego se ataca por medio de la técnica RIE con Cl2F2CH4 • Soluciones • Se midió a cuatro puntas
CONCLUSIONES • Se pretende estudiar corriente crítica en función de temperatura, campo magnético y espesor de las capas ferromagnéticas. • Analizar la dependencia de la Jc para distintas configuraciones de las capas magnéticas de Co.