110 likes | 265 Views
VÉKONYRÉTEG LEVÁLASZTÁSA FIZIKAI MÓDSZEREKKEL. Előadó: Patay András Mentor: Szabó Tamás. Rétegleválasztás módszerei. Kémiai rétegleválasztások (Chemical Vapor Deposition) Fizikai rétegleválasztások (Physical Vapor Deposition): Vákuumgőzölés (elektronsugaras, termikus) Porlasztás (DC, RF).
E N D
VÉKONYRÉTEG LEVÁLASZTÁSA FIZIKAI MÓDSZEREKKEL Előadó: Patay András Mentor: Szabó Tamás
Rétegleválasztás módszerei • Kémiai rétegleválasztások (Chemical Vapor Deposition) • Fizikai rétegleválasztások (Physical Vapor Deposition): • Vákuumgőzölés (elektronsugaras, termikus) • Porlasztás (DC, RF)
PVD eljárás feltételei • Vákuumrendszer: - Vákuumkamra- Csatlakozók- Vákuumszivattyúk • Rétegleválasztó egységek:- Elektronágyú- DC porlasztó
Vákuumgőzölés • Feladat:1. Alumíniumréteg leválasztása vákuumgőzölő berendezés segítségével2. A növesztett réteg sűrűségének megállapítása
A feladat lépései • Szilícium-szelet megjelölése • Szilícium szelet tömegének mérése • Alumínium réteg növesztése • A növesztett réteg tömegének meghatározása • (kémiai laborban lépcsőmarás) • A növesztett réteg vastagágának lemérése Alpha-steppel • Si-szelet felszínének kiszámítása • A növesztett réteg sűrűségének kiszámítása
Eredmények • Leválasztott tömeg: m = 0,00417g • Si szelet felszíne: A = 77,77741 cm2 • Rétegvastagság: d = 330,6 nm • Számított térfogat: V = A × d = 0,002571 cm3 • Számított sűrűség: ρ = m / V = 1,6217 g/cm3
Porlasztás • Feladat: Titánréteg növesztése katódporlasztással „lift-off”-os szeletre, majd a réteg vastagságának lemérése, kiépülési sebesség meghatározása. • Feladat célja: A mérés után meghatározható, hogy az azonos paraméterek mellett (teljesítmény, végvákuum, gáznyomás, szeletforgatási sebesség), mennyi idő szükséges egy általunk választott rétegvastagság eléréséhez.
Adatok • Paraméterek:- Teljesítmény: 30% (463 V, 2,7 A)- Végvákuum: 4×10-6 mbar- Gáznyomás: 30 sccm (Ar)- Szeletforgatási sebesség: 60 %- Előporlasztás: 1×3 perc- Porlasztás időtartama: 2×2 perc • Ti-szelet vastagsága: d = 90 nm • Leválasztási sebesség: 22,5 nm/perc • Szükséges idő 200 nm vastagság eléréséhez: 8 perc 53 másodperc