1 / 48

Klasičan CMOS sklop

Klasičan CMOS sklop. Svojstva klasičnog CMOS sklopa. lokalna n – podloga oksidna izolacija (LOCOS) podešavanje napona praga ionskom implantacijom kanala polisilicijske upravljačke elektrode. Submikrometarski CMOS sklop. Svojstva sumikrometarskog CMOS sklopa.

winka
Download Presentation

Klasičan CMOS sklop

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript


  1. Klasičan CMOS sklop

  2. Svojstva klasičnog CMOS sklopa • lokalna n–podloga • oksidna izolacija (LOCOS) • podešavanje napona praga ionskom implantacijom kanala • polisilicijske upravljačke elektrode

  3. Submikrometarski CMOS sklop

  4. Svojstva sumikrometarskog CMOS sklopa • plitka žljebna izolacija (engl. shallow trench isolation – STI) • n+ polisilicij nMOS tranzistora i p+ polisilicij pMOS tranzistora • dodatni slabo vodljivi slojevi uvoda i odvoda (engl. lightly doped drain – LDD) • kontakti elektroda izvedeni sa slojem silicida

  5. Tehnološki proces • 0,18 μm‑ski CMOS proces tvrtke TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Corporation) pod šifrom “tsmc-018-t29b_mm_non_epi” • Parametri procesa preuzeti su sa web stranice http://www.mosis.org/

  6. MOS tranzistorStrujno‑naponske karakteristike Područje zapiranja: za uGS < UGS0 iD = 0 Triodno područje: za uGS > UGS0 koeficijent struje:

  7. MOS tranzistorNapon praga uz napon podloge uBS = 0 u inverziji:

  8. MOS tranzistorNapon praga - utjecaj napona podloge

  9. MOS tranzistorZasićenje tranzistora s dugim kanalom Područje zasićenja: za uDS > uGS-UGS0

  10. MOS tranzistorIzlazne karakteristike tranzistora s dugim kanalom

  11. MOS tranzistorDriftna brzinanosilaca aproksimacija:

  12. MOS tranzistorZasićenje tranzistora s kratkim kanalom Područje zasićenja brzine nosilaca: za uDS > UDSs struja dovoda

  13. MOS tranzistorIzlazne karakteristike tranzistora s kratkim kanalom

  14. MOS tranzistorUsporedba izlaznih karakteristika dugi kanal kratki kanal za UDS= UGS= 1,8 V ID= 310 mA ID= 242 mA

  15. MOS tranzistorUsporedba prijenosnih karakteristika dugi kanal kratki kanal

  16. MOS tranzistorIzlazne karakteristike pMOS tranzistora

  17. MOS tranzistorIzlazne karakteristike nMOS i pMOS tranzistora nMOS tranzistor pMOS tranzistor za |UDS |=|UGS |= 1,8 V ID= 242 mA ID=  119 mA

  18. MOS tranzistorPodručje struje početka protjecanja Za uGS > UGS0

  19. MOS tranzistorKapaciteti MOS kapaciteti: CGS, CGB i CGD Kapaciteti osiromašenih slojeva:CBS i CBD

  20. MOS tranzistorStruktura maksimalna vrijednost kapaciteta kanala kapaciteti preklapanja ukupni MOS kapaciteti

  21. MOS tranzistorRaspodjela kapaciteta kanala pri prijelazu iz triodnog područja u područje zasićenja uzUDS=0

  22. MOS tranzistorKapaciteti osiromašenih slojeva Cjb - gustoće kapaciteta donjeg dijela pn spoja po jedinici površine Cjw - gustoće kapaciteta bočnih stranica po jedinici dužine u = uBS za kapacitet CBS u = uBD za kapacitet CBD

  23. MOS tranzistorParametri kapacitivnog modela za 0,18 μm‑ski CMOS proces

  24. MOS tranzistorSerijski otpori LRS i LRD - udaljenosti uvoda i odvoda do upravljačke elektrode RSH - slojni otpor implantiranih područja uvoda i odvoda za 0,18 μm‑ski CMOS proces: RSHn= 6,7 /, RSHp= 7,5 /

  25. MOS tranzistorPravila skaliranja

  26. MOS tranzistorPrimjer skaliranja

  27. MOS tranzistorPredvidiv razvoj CMOS sklopova

  28. MOS tranzistorSkaliranje – kratki kanal Napon praga se smanjuje sa skraćenjem kanala Napon praga praktički se linearno smanjuje s porastom naponaUDS

  29. MOS tranzistorSkaliranje – kratki kanal Napon praga povećava se sa suženjem kanala

  30. MOS tranzistorSPICE SPICE (Simulation Program with Integrated Circuits Emphasis) - program za električku analizu sklopova • PSpice - http://www.pspice.com/ • unutar pragrama Microwind – http://www.microwind.org/ • WinSpice - http://www.winspice.co.uk/ • LTSpice/SwitcherCAD III-http://www.linear.com/software

  31. MOS tranzistorSPICE modeli • Level 1 - klasični model MOS tranzistora s dugim kanalom • Level 2 -  fizikalni model MOS tranzistora s kratkim kanalom • Level 3 – empirijski model MOS tranzistora s kratkim kanalom • BSIM (Berkeley Short‑Channel IGFET Model) -  BSIM1, BSIM2, BSIM3 i BSIM4, BSIMSOI

  32. MOS tranzistorBSIM3 i BSIM4 modeli Svojstva: • za sumikrometarske tranzistore, • nekoliko stotina parametra, • uz nominalne vrijednosti parametara ovisnosti o dimenzijama kanala, • efekti kratkog kanala poput smanjenja pokretljivosti zbog vertikalnog polja u kanalu, zasićenja brzine nosilaca, promjene napona praga s naponom odvoda, modulacije dužine kanala, struje podloge, struje početka protjecanja, • jedinstven izraz za struju odvoda u svim područjima rada. Detaljniji opis modela: http://www-device.eecs.berkeley.edu/~bsim3/

  33. MOS tranzistorModel za digitalne sklopove MOS tranzistor – radi kao sklopka za uGS < UGS0- sklopka je isključena za uGSUGS0- sklopka je uključena Ruk– nadomjesni otpor iz izlaznih karakteristika tranzistora

  34. MOS tranzistorAnalitički model izlaznih karakteristika za uGS < UGS0 za uGS≥UGS0

  35. MOS tranzistorParametri strujno-naponskih karakteristika 0,18 μm‑ski CMOS proces – parametri za digitalne sklopove (LM= 0,2 mm)

  36. MOS tranzistorUsporedba realnih i aproksimiranih karakteristika

  37. MOS tranzistorKapaciteti kanala – digitalni sklop prosječne vrijednosti

  38. MOS tranzistorKapaciteti osiromašenih slojeva – digitalni sklop prosječna vrijednost kapaciteta

  39. MOS tranzistorTranzistori za analogne sklopove • izvode se s debljim oksidom radi većeg napona napajanja, • izvode se s dužim kanalom radi većeg izlaznog otpora (LM= 1 mm), • rade u području zasićenja. Analitički model izlaznih karakteristika

  40. MOS tranzistorTranzitori za analogne sklopove nMOS tranzistor pMOS tranzistor LM= 1 mm, W/L= 1,5

  41. MOS tranzistorParametri strujno-naponskih karakteristika 0,18 μm‑ski CMOS proces – parametri za analogne sklopove (LM= 1 mm)

  42. MOS tranzistorNadomjesni spoj za mali signal

  43. MOS tranzistorNiskofrekvencijski parametri

  44. MOS tranzistorKapaciteti

  45. Bipolarni tranzistori Supstratni pnp tranzistor: • emiter - p+ područje uvoda ili odvoda, • baza - lokalna n‑podloga, • kolektor - zajednička p‑podloga. npn tranzistor: • dodatne p‑bazne difuzije ili implantacije unutar lokalne n‑podloge, • kolektor - lokalna n‑podloga, • emiter – n+ područja uvoda ili odvoda.

  46. Otpornici Slojevi CMOS strukture: (za 0,18 μm‑ski proces) • n+sloj - 59 /, • lokalna n‑podloga - 925 /, • polisilicij - 337 /. MOS tranzistori u triodnom području: • veći otpor, ali nelinearnost.

  47. Kondenzatori Kapacitet između dva polisilicijska sloja MOS tranzistori s kratko spojenim uvodom i odvodom

More Related