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Atelier « Contamination ». Giens, Journées de l’IM2NP, 11-12 mai 2010. Des contaminants. … dans les matériaux semi-conducteurs et isolants … problématique ancienne qui fut « bloquante » dans l’industrie du MOS (Na, K) Dopants : B, As, P, In + association dopant-défauts, dopant-contaminant…
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Atelier « Contamination » Giens, Journées de l’IM2NP, 11-12 mai 2010
Des contaminants • … dans les matériaux semi-conducteurs et isolants • … problématique ancienne qui fut « bloquante » dans l’industrie du MOS (Na, K) • Dopants: B, As, P, In + association dopant-défauts, dopant-contaminant… • Organiques (COV – Composés Organiques Volatiles • Inorganiques • métaux et leurs contaminants (soufre…) • carbone, oxygène, complexes • Eléments radioactifs (émetteurs a, traces <ppb) • Acides / Bases + … tout ce qui n’est pas attendu
Des contaminants Liste de contaminants établie lors du projet CIM-Conta (2005-2009)
Des effets et des études Industriels : perte de rendement , de performances Identification des étapes sensibles du procédé de fab. et des causes de la contamination Limitations des contaminations lors du procédé de fab. Effets sur le procédé de fabrication (délaminage, masques…) Physiques : précipités, défauts, complexes, procédés Contrôle de la contamination - Nettoyage (surfaces) - Piégeage et « gettering » (étape de décontamination + piège à demeure sur site) - Barrières Etude sur les matériaux et les structures (multicouches…)
Des effets et des études Electriques Effets sur le fonctionnement du dispositif final (instabilités, décalages en tension) Etudes statistiques (proportion de cellules défectueuses, claquages…) Etude sur les dispositifs (vieillissement accéléré)
Des Techniques nombreuses Caractérisation des contaminants dans le matériau: Détection de présence Caractérisation de leur mobilité dans le matériau Réaction /précipitation dans le matériau (défauts étendus, interf.) Contraintes Propriétés mécaniques pour le procédé (adhésion des couches…) Techniques de caractérisation physico-chimiques(détection /quantification) surface STM, AES, MEIS, XPS, AFM magnétique, AFM électrique, LEED/RHEED, TXRF, VPD-ICPMS… Interfaces STM, AES, SAT, TEM, AFM magnétique, AFM électrique… Volume SIMS, TOF-SIMS, D-SIMS, DLTS, RBS, SAT, TEM, XRD, FIM, EDMR Techniques de caractérisation électrique(matériau / fonction. Dispo.) Durées de vie: voir tableau ci-joint… + Micro PCD Mobilité électronique : Piégeage de charges: décalages C-V, I-V Claquage d’oxydes: statistiques Vieillissement prématuré: cinétiques de vieillissement
Le projet COMET • Ambition du projet: Caractériser et quantifier l’impact des contaminants métalliques sur les performances électriques des circuits • Porteur: ST Microelectronics • Objectifs du développement • Etablir la relation entre contamination contrôlée et les performances des composants • Modéliser le comportement des contaminants métalliques au cours du procédé • Explorer de nouvelles techniques de caractérisation permettant d’adresser les besoins analytiques des technologies hétérogènes embarquées. • Améliorer les procédures de nettoyage dans le but de minimiser la contamination apportée par les • Équipements • Maitriser les méthodes de contamination sur plaquettes
Le projet COMET Moyens mis en œuvre vis-à-vis de la difficulté scientifique (non-exhaustif) - Techniques d’analyses de surface VPD associé à ICPMS, TOF-SIMS, D-SIMS - Techniques d’identification de contaminants dans le volume DLTS… - Techniques de mesure des longueurs de diffusion de porteurs minoritaires Micro-PCD, SPV… - Techniques de caractérisation fine MAFM, EDMR… - Techniques de caractérisation électrique à base de Testeurs électriques standard - Logiciels de simulation SPICE