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Cavités Supraconductrices à Hauts Gradients Collisionneurs Linéaires. Journées Accélérateurs – Roscoff - 10 Octobre 2005. Bernard VISENTIN. 500 GeV 1 TeV. 30 km 20 000 cavités 35 MV/m.
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Cavités Supraconductrices à Hauts Gradients Collisionneurs Linéaires Journées Accélérateurs – Roscoff - 10 Octobre 2005 Bernard VISENTIN
500 GeV 1 TeV 30 km 20 000 cavités 35 MV/m X-ray Free Electron Laser: 20 GeV – 2.1 km – 936 cavités – 23.5 MV/m Accélérateurs Linéaires Supraconducteurs
Hauts Gradients Coût Relatif ( $ ) C. Adolphsen (SLAC) Eacc (MV/m)
LA RECETTE : Electrochimie + Etuvage EPAC’98 SRF Workshop’97 Eacc = 40 MV/m
R & D fondamentale 100 mm 100 mm Electrochimie ? Chimie Standard Cathode - (Al) Anode + (Nb) FS ( 1:9 ) V ( 17 volt ) – J ( 60 mA/cm2 ) Trempage FNP ( 1:1:2 )
R & D appliquée Electrochimie Reproductibilité - Emission de Champ
R & D appliquée • Impuretés dans le bain EP • émission gaz (H2), dépôt (S) et corrosion à la cathode (Al) • rinçage à l’alcool des cavités • Durée de vie du bain ( Nb dissout ): HF • FS ( 1:9 ) - 9 g/l FS ( 4:9 ) - 23 g/l • Optimiser les paramètres EP ( V-I ) • choix zone de fonctionnement ( plateau, …) Optimisation des Performances banc EP pour test sur cavité mono-cellule ( C. Antoine ) F. Eozénou et al. (ThP02) – A. Aspart et al. (ThP03) SRF Workshop’2005
Quelle que soit la structure du niobium … ( Mono or Poly-cristal,) la méthode de fabrication …(Soudure FE or Hydroformage, Nb massif ou Nb/Cu feuilles) le traitement thermique … ( sans, 800°C, 1300°C/Ti ) le traitement chimique … ( Electropolissage ou B C P ) Etuvage Phénomène Universel in-situ (UHV) T = 110 - 120 °C t = 1 – 2 jours TTF 1.3 GHz - Saclay Poly-cristal 1300°C / Ti Chimie Standard 1:1:2 TTF 1.3 GHz - Saclay / KEK Poly-cristal Sans TraitementThermique Electropolissage LL 2.2 GHz - JLab Mono-cristal 800°C – 1250°C / Ti Chimie Standard 1:1:1
Etuvage Traitement Définitif T = 120 °C / 2 jours + Exposition à l’air sans précautions particulières - 4 ans - Traitement HF Rinçage Haute Pression
SRF Workshop ’ 2003 – Travemünde – TuO 01 Origine du Phénomène ? Théories ( 6 ) Observations Expérimentales
R & D fondamentale Hypothèse de Travail : Pente à Haut Champ Etuvage dopage du Nb par Oxygène Diffusion O
Paramètres Etuvage ( T , t ) sans changer la Pénétration de l’ Oxygène 2ème loi de Fick solutions analytiques 110 °C / 60 heures équivalence 145 °C / 3 heures solide semi-infini : C(0,t) = CS couche mince oxyde : C(x,0) = Q d(x)
SRF Workshop ’ 2005 - Cornell University – TuP05 Etuvage « Rapide » ( Ultra Vide ) • lampes Infra Rouges ( montée rapide en T ) • pompage interne de la cavité 145 °C - 3 heures Similarités avec Etuvage Standard Hypothèse Vérifiée
R & D appliquée Mise en Œuvre peu adaptée à la Productionen masse de Cavités Gain de temps : Etuvage rapide Risques de fuite hélium (T) : Etuvage avant Assemblage Etuvage à l’air Gagner une étape: Etuvage remplace Séchage Électrochimie + Rinçage Eau Ultra Pure Rinçage Haute Pression - 85 bars (FE) Salle Blanche ( Classe 100 ) Séchage Air : 3 heures Assemblage + Test Hélium (Test RF ) Banc de Test (Cryostat Vertical ) Etuvage sous Ultra Vide 110 °C / 2 jours 145 °C / 3 heures Test RF
SRF Workshop ’ 2003 – Travemünde – MoP 19 « Ultra Vide » « Etuvage sous Air » Interaction Atmosphère - Nb Surface cavité non fermée dans une Etuve (atmosphère pièce - pressionatmosphérique ) 110 °C 60 heures + HPR Pas de modification apparente due à l’atmosphère, mais…
Etuvage Rapide à l’air 145°C / 3 heures + HPR Étuve Cavité Humide après HPR lampes IR Cavité sèche SB hygrométrie 60% Mauvais Résultats après étuvage (RS, quench) interaction entre atmosphère et surface Nb( Etuvage Rapide UHV )
O % ( provenance : NbOX, Nb2O5 ) Provenance : H2O en surface O % Contrôler la concentration Oxygène dans Niobium
Etuvage Optimisé pour la Production Rinçage Haute Pression - 85 bars (FE) Salle Blanche ( Classe 100 ) Séchage Air Chaud : 145°C,t < 3 heures Assemblage + Test Hélium RF Test Rapide Etuvage Air sur Cavité Humide sous FluxLaminaire (FE) OK t< 3heures turbulences
les Cavités Supra à Hauts Gradients Nécessité d'une R & D Electropolissage Etuvage Fondamentale et Appliquée