410 likes | 671 Views
Transistoriteknologian kehitys. Ilpo Järvinen. Johdanto. Transistori digitaalisissa piireissä Tekniikka ennen transistoreja Puolijohdetransistori Integroidut piirit MOS PMOS, NMOS, CMOS Mikroprosessori. Transistori digitaalisissa piireissä. Toiminta perustuu puolijohdeilmiöön
E N D
Transistoriteknologian kehitys Ilpo Järvinen
Johdanto • Transistori digitaalisissa piireissä • Tekniikka ennen transistoreja • Puolijohdetransistori • Integroidut piirit • MOS • PMOS, NMOS, CMOS • Mikroprosessori
Transistori digitaalisissa piireissä • Toiminta perustuu puolijohdeilmiöön • Puolijohde kappaleeseen muodostetaan valmistusvaiheessa rajapinta • Sähköisiä ominaisuuksia voidaan säädellä • Tyypit: bipolaarinen ja unipolaarinen • Digitaalisissa sovelluksissa: unipolaarinen • Toimii ohjauksen suhteen kytkimenä • Joko päästö- tai estotilassa • Tehonkulutus aiheuttaa piirin lämpenemisen
Puolijohteet: germanium ja pii Kuvat: http://www.periodictabletable.com
Veräjät • Kasataan transistoreja yhdistelemällä • Toteuttavat jonkin loogisen operaation (AND, OR, XOR, jne.) • Loogisia tiloja (0 ja 1) kuvataan jännitteillä (0V ja käyttöjännite) • Myös muut rakenteet mahdollisia toteuttaa • Tietoa tallentavat kiikut ja salvat
Tyhjiöputki • 1883 Edison keksi tyhjiön sähkönjohtavuusominaisuuden • 1906 Ensimmäinen tyhjiöputki • Aluksi analogisiin sovelluksiin • 1930-luvulla ensimmäiset digitaaliset kokeilut • 1940-luvun puolivälissä digitaaliseen käyttöön (mm. ENIAC)
Tyhjiöputkien ongelmia • Monia ongelmia • Toiminta ulkoisesta lämpötilasta riippuvainen • Suurikokoinen • Suuri tehonkulutus • paljon lämpöä • Paloi loppuun • Jatkuva huoltamistarve
Julius Lilienfield • Tutki 1920-luvulla puolijohteita • 1926 patenttihakemus, joka voidaan luokitella puolijohdetransistoriksi • Prototyyppi ei toiminut • Muitakin keksintöjä samalta alueelta • 1930-luvulla unohtui
Transistorin keksijät • Bell Labsilla vuonna 1945 ryhmä tutkimaan puolijohteita • William Shockley, 1910-1989 • Kehitellyt mm. U-235 fissiota, toisessa maailmansodassa käytettyä sotateknologiaa • Ryhmän johtaja, toimi kuitenkin paljon “omin päin” • Taitava ongelman ratkoja
Transistorin keksijät (2) • John Bardeen, 1908-1991 • Teoreetikko • 1972 fysiikan Nobel (suprajohtavuudesta) • Walter Braittain, 1902-1987 • Käytännön mies • Vuonna 1956 keksijä kolmikolle fysiikan Nobel palkinto
Puolijohdetransistori • Vuonna 1947 ensimmäinen transistori • Bardeen ja Braittain keksivät, Shockley teki ”omaa tutkimustaan” • Bell Labs vaati, että Shockley mainitaan, koska hän oli ryhmän johtajana • Johtimet ”asetettu” puolijohdekappaleen pinnalle • Erittäin epäluotettava • Toiminta vaihteli yksilöiden välillä • 1948 patenttihakemus • Shockleytä ei hakemuksessa • Hyväksyttiin 1950
Puolijohdetransistori (3) • Aluksi puolijohteena germanium • Kallista • Harvinaista • Shockley jatkoi kehittelyä • Etääntyi Bardeenista ja Braittainista • Vuonna 1951 varmatoimisempi bipolaaritransistori • Virta kulkee puolijohteen läpi, eikä ”pinnalla”
Transistorin ominaisuuksia • Tyhjiöputkiin verrattuna ylivertainen • Pieni koko, virrankulutus ja hinta • Parempi lämmönsietokyky • Ei pala nopeasti loppuun • Valmistaminen helpompaa
Ensimmäiset sovellukset • Vuonna 1954 TI toi markkinoille ensimmäiset piitransistorit • Samana vuonna transistoriradio • 1953 Bell Labsilta TRADIC • 800 transistorinen tietokone • 1955 IBM:ltä kaupallinen tietokone transistoreista • Korkea hinta • Ei ollut myyntimenestys
Syitä integrointiin • Transistorit vievät tilaa • Moniin sovelluksiin liian suuri tilan tarve • Monimutkaiset rakenteet vaativat jopa monien piirilevyjen tilan • Puolijohdetransistoreja ei tyhjiöputkien tapaan jouduttu vaihtamaan • Ei tarvetta vaihtaa yksittäisiä komponentteja
Geoffrey Dummer • Tutki integroituja piirejä 1950-luvulla • Armeijan toimeksianto • Toiminta pitkälti salaista • Prototyyppi ei toiminut • Ei saanut jatkorahoitusta
Ensimmäinen integroitu piiri (IC) • Keksijänä Jack Kilby • 1923- • Keskinkertainen koulumenestys • Suunnittelu TI:llä vuonna 1958, muiden ollessa kesälomilla • Toteutus myöhemmin syksyllä • Patenttihakemus vuonna 1959 • Sisälsi 5 komponenttia • Ongelmana kultalangoista toteutetut johtimet • Sai vuonna 2000 fysiikan Nobelin
Fairchild Semiconductor • Shockley perusti 1955 Semiconductor Laboratoryn • Jätti Bell Labsin • Kokosi ympärilleen joukon nuoria insinöörejä: mm. Jean Hoerni, Gordon Moore, Robert Noyce • Ajautui nopeasti ongelmiin • Insinöörit erosivat ja perustivat oman yrityksen • Nykyisin tunnetaan nimellä Fairchild Semiconductorina
Tasoon valmistettu IC • Jean Hoerni, Kurt Lehovec ja Robert Noyce kehittivät tahollaan IC:tä Fairchildilla • Riippumaton Kilbyn tutkimuksesta • Patenttihakemus muutama kuukautta Kilbyn hakemuksen jälkeen • Saivat patentin ennen Kilbyä vuonna 1961
Tasoon valmistettu IC (2) • Teknisesti Kilbyn toteutusta parempi • Puolijohdekappale • Eristekerros • Johdinkerros • Nykyinen tekniikka hyvin samankaltainen • Tosin jopa 10 johdinkerrosta
Texas Instruments vs. Fairchild Semiconductor • Päätyivät ristiinlisensoimaan toistensa keksinnöt oikeustaistelun lopettamiseksi • 1961 molemmat toivat markkinoille integroidun piirin • Muutama transistori ja vastus piirillä
IC:iden valmistus • Alussa suuria ongelmia • Epävarma tuotantoprosessi • Jopa 90% piireistä kelvottomia • Korkea hinta • Jopa 100-kertainen yksittäisistä transistoreista koottuun verrattuna • Edes pieni tilantarve ei vakuuttanut monia asiakkaita • Laski kuitenkin nopeasti 1960-luvulla
Mooren laki • Vuonna 1965 Gordon Moore tutki aikaisempien vuosien kehitystä • Havaitsi transistorimäärän hintaa kohden tuplaantuvan • Aluksi 12 tai 24 kk kausi • Vakiintui myöhemmin 18 kk:hon • Lakia on kritisoitu viime aikoina voimakkaasti
Muistit • DRAM vuonna 1966 • Yksi transistori ja yksi kondensaattori per bitti • Aiemmin väh. 6 transistoria per bitti (SRAM) • 1967 • 256-bittinen IC SRAM Fairchildilta • IC DRAM IBM:ltä • 1969 Inteliltä 1kb DRAM
MOS(FET) • Metal-Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor • Metallioksidin puolijohdeominaisuuteen perustuva transistori • Unipolaarinen • Aikaisempiin nähden • Pienempi tilan tarve • Pienempi tehonkulutus • Halvempi tuottaa • Hitaampi
MOS(FET) (2) • Kaksi eri tyyppiä • NMOS (n-type MOS) ja PMOS (p-type MOS) • Erona ohjaavan syötteen polariteetti • Kahng ja Attalla kehittivät 1960 Bell Labsilla • Hitauden takia ei otettu vakavasti • Ensimmäinen MOS IC rakennettiinkin siksi 1962 RCA Research Laboratoryssä • Steven Hofstein, Fredric Heiman
MOS(FET) (4) • Nykyisistä piireistä lähes kaikki perustuvat MOS-transistoreihin • Edelleen samoja ongelmia • Virran kulutus • Piirin lämpeneminen • Sisäänmenon suuruisen jännitteen kopiointi ulostuloon
CMOS • Complementary MOS • Frank Wanlass keksi 1963 • Käyttöön vasta 1970-luvulla ja 1980-luvun alussa • Perustuu NMOS- ja PMOS-yhteiskäyttöön • 0- ja 1-tason kytkennät toteutettu toistensa loogisella komplementilla • Erittäin pieni virrankulutus • Sisäänmenon suuruinen ulostulon jännite ok
CMOS (2) • AND veräjän toteutus • NOT(a NAND b) • t = 0, kun a AND b 1, kun !(a AND b) = !a OR !b • f = 0, kun t 1, kun !t
TTL • Transistor-to-Transistor Logic • IC:t standardipiirejä, joissa veräjiä • Kytkennät toteutettiin piirilevyllä • Yleensä yhtä veräjää yhdellä piirillä • Fairchildilta Micromosaic vuonna 1967 • Ainoa “kapinallinen” • Nykyisten ASIC-piirien kaltainen toteutustapa • ~300 transistorinen piiri, joko NMOS tai PMOS • Johdinkerros oli asiakkaan päätettävissä • Markkinat kutistuivat ja lopulta tuotanto lopetettiin
TTL (2) • Transistorien määrät yksittäisellä piirillä kasvoivat
Intel • Syntyi vuonna 1968 • Perustajina Gordon Moore, Robert Noyce ja Andrew Grove • Aluksi tuotteina muistit • Japanilaiselta Busicomilta tilaus laskimeen • 12 piiriä • Intelillä päädyttiin kuitenkin yksipiiriseen ratkaisuun • Busicom hyväksyi ehdotuksen ja rahoitti kehityksen • Samaan aikaan TI:llä prosessorin kehitysprojekti • Valmistui samana vuonna Intelin hankkeen kanssa
Ensimmäinen mikroprosessori • Intel 4004 • Valmistui vuonna 1971 • 4-bittinen, 16-rekisteriä • ~4mm x ~3mm ≈12 mm² • Viivanleveys 10 µm (mikronia) • Oikeudet Busicomilla • Intel osti oikeudet itselleen ($60 000) • Busicom konkurssiin pian tämän jälkeen
IC:iden vakiintuminen • 1960- ja 1970-luku murroksen aikaa • Siirtyminen integroituihin piireihin • Valmistusteknologian parantuessa viivanleveys pieneni • 1980-luvun alussa • saavutettiin 1 µm • Micromosaic-tyyppisen piirin valmistuksen uusi tuleminen • 1980-luvusta alkaen pelkästään viivanleveyttä pienennetty
Yhteenveto • Tyhjiöputki => Transistori => IC • Puolijohdeteollisuus kasvanut valtavaksi teollisuuden haaraksi • Mahdollistanut nykyisen ”informaatio ajan”