1 / 35

PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF TRONG CHẾ TẠO MÀNG MỎNG

PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF TRONG CHẾ TẠO MÀNG MỎNG. GVHD: PGS. TS. Lê Văn Hiếu Học viên: Phùng Nguyễn Thái Hằng. NỘI DUNG:. I. PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I.1 Phún xạ là gì ? I.2 Hệ số phún xạ I.3 Phún xạ Magnetron II. PHÚN XẠ MAGNETRON RF II.1 Khái niệm II.2 Cấu tạo II.3 Sơ đồ hoạt động

sapphire
Download Presentation

PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF TRONG CHẾ TẠO MÀNG MỎNG

An Image/Link below is provided (as is) to download presentation Download Policy: Content on the Website is provided to you AS IS for your information and personal use and may not be sold / licensed / shared on other websites without getting consent from its author. Content is provided to you AS IS for your information and personal use only. Download presentation by click this link. While downloading, if for some reason you are not able to download a presentation, the publisher may have deleted the file from their server. During download, if you can't get a presentation, the file might be deleted by the publisher.

E N D

Presentation Transcript

  1. PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF TRONG CHẾ TẠO MÀNG MỎNG GVHD: PGS. TS. Lê Văn Hiếu Học viên: Phùng Nguyễn Thái Hằng

  2. NỘI DUNG: I. PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ I.1 Phún xạ là gì ? I.2 Hệ số phún xạ I.3 Phún xạ Magnetron II. PHÚN XẠ MAGNETRON RF II.1 Khái niệm II.2 Cấu tạo II.3 Sơ đồ hoạt động II.4 Nguyên tắc hoạt động III. KHÓ KHĂN TRONG PP RF IV. SO SÁNH PHÚN XẠ MAGNETRON RF VỚI DC

  3. I.1 Khái niệm về phún xạ I. PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ

  4. Hình ảnh mô tả Sự Phún xạ Đế Ar+ BIA 5

  5. I.2 Hệ số phún xạ s là hệ số phún xạ nα là số nguyên tử bị phún xạ ni là số ion đập vào bề mặt cathode

  6. Hệ số phún xạ s phụ thuộc vào : • Bản chất của vật liệu phún xạ • Loại ion và năng lượng của ion bắn phá lên bia • Góc đập của ion lên bề mặt cathode • Phụ thuộc vào áp suất khí làm việc

  7. Sự phụ thuộc của một số loại vật liệu làm bia vào sự phún xạ

  8. Ảnh hưởng của năng lượng ion vào sự phún xạ

  9. Sự phụ thuộc góc tới vào sự phún xạ Hệ số phún xạ đạt giá trị cao nhất ở vào khoảng góc tới có giá trị 720

  10. I.3 Phún xạ Magnetron

  11. II.1 Khái niệm II PHÚN XẠ MAGNETRON RF II.2 Cấu tạo hệ phún xạ Magnetron RF

  12. a/ Buồng phún xạ

  13. b/ Một số loại đế dùng trong hệ phún xạ Đế Ceramic (gốm)

  14. Đế Silicon Đế thủy tinh

  15. c/ Bia

  16. d/Bộ phận tạo chân không :Thường dùng 2 loại bơm: • Bơm sơ cấp (bơm rote hoặc bơm quay dầu) • Bơm khuếch tán

  17. Mộtsốthôngsốcủabơmchânkhôngdùngtronghệphúnxạ Magnetron: • Bơmsơcấp (BơmRote,bơm quay dầu): • Tốcđộ : 30 m3/h. • Ápsuấttớihạn: 10-2torr • Bơmkhuếchtán: • Tốcđộ : 200 l/sec • Ápsuấttớihạn : 10-10torr • Chânkhôngphúnxạ: • Chânkhôngtớihạn : 10-7torr • Chânkhônglàmviệc : 10-2 10-3torr

  18. e/ Bộ phận Magnetron

  19. Cấu trúc của một số hệ Magnetron thông thường

  20. f/ Plasma:

  21. Vùng plasma giữa 2 vùng tối

  22. Sơ đồ cấu tạo và nguyên lý hoạt động của phún xạ Magnetron RF

  23. II.3 Sơ đồ của hệ phún xạ Magnetron RF

  24. Thế RF tại cathode

  25. SƠ ĐỒ: • Bia: Được gắn vào một bản giải nhiệt. Bản giải nhiệt được gắn vào cathode • Từ trường do một vòng nam châm bên ngoài bao quanh và khác cực với nam châm ở giữa. Chúng được nối với nhau bằng một tấm sắt, có tác dụng khép kín đường sức từ phía dưới • Đế: Được áp vào điện cực anode

  26. N S N N Đế (Athod) N (Kathod) Hình 2 Heä magnetron phaúng vaø caùc ñöôøng söùc töø treân beà maët bia (b) (a) Sơđồmộthệ Magnetron

  27. II.4 Nguyêntắchoạtđộng Đế tAr Ar e- KhíAr Ar Ar+ Ar+ e- 13.56MHz Khí N2 N Ar N+ tN Khí bên ngoài Bơm CKhông S N S

  28. Đặc trưng của vùng phún xạ Vùng I:Vùng sụtthế Cathode VùngII:Vùng ion hóa VùngIII:Vùng plasma

  29. Hìnhảnhvềsựphúnxạ

  30. Áp suất thấp,khoảng từ 5-15 mTorr.Điều này đòi hỏi phải hút chân không cao Số electron theo thời gian tích tụ nhiều trên bản cực làm hủy sự tái phún xạ Ion dương đập vào phá hủy màng III. KHÓ KHĂN TRONG PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ MAGNETRON RF

  31. IV. SO SÁNH GIỮA PHÚN XẠ MAGNETRON RF VÀ DC Phúnxạ DC Phúnxạ RF Khôngsửdụngtrựctiếpchocácvậtliệuđiệnmôi Cóthểsửdụngchocácvậtliệuđiệnmôi,kimloạivàbándẫn Hoạtđộngchủyếulàdựavàothếhiệudịch Hoạtđộngchủyếulàdựavào electron bịbứtra do ion dươngbịvađậpvàođiệncực Vùngtốicáchđiệngiữađếvàvùng plasma làmchochấtlượngmàngtốt Bịdậptắtnguồn

  32. TÀI LIỆU THAM KHẢO Một số sách và luận văn: [1] Trần Định Tường, Màng mỏng quang học,NXBKHKT Hà Nội,2004 [2] Võ Thị Kim Chung,Luận văn Thạc sĩ Khoa Học Tự Nhiên, Tổng hợp màng mỏng TiO2 Bằng pp phún xạ Magnetron-mạ ion,Trường ĐH KHTN TPHCM,1999 [3] ThS Vũ Thị Hạnh Thu,các bài giảng về Vật Lý Màng Mỏng,Trường ĐH KHTN TPHCM [4] Lê Phương Ngọc,Nguyễn Thị Thu Thảo,Khóa Luận Tốt Nghiệp [5] Nguyễn Ngọc Thùy Trang,Khóa Luận tốt nghiệp [6] Lê Vũ Tuấn Hùng,Nguyễn Văn Đến,Huỳnh Thành Đạt,Nghiên cứu chế tạo màng mỏng TiO2 bằng phương pháp phún xạ Magnetron RF,Tạp chí phát triển KH&CN ,tập 9,số 6/2006

  33. Một số trang web: http://vi.wikipedia.org/wiki/M%C3%A0ng_m%E1%BB%8Fng http://vi.wikipedia.org/wiki/Ph%C3%BAn_x%E1%BA%A1_cat%E1%BB%91t http://en.wikipedia.org/wiki/Sputtering http://en.wikipedia.org/wiki/Radio_frequency www.freepatentsonline.com http://www.lermps.com/PHP/HTML/textes.php?ref=process_depot+phase+vapeur.xls http://www.ajaint.com/whatis.htm

More Related