280 likes | 393 Views
Atomi felületi adalékolás technológiája és kémiai hatásainak tanulmányozása HREELS, AES és TDS módszerekkel. Farkas Arnold Péter*, Solymosi Frigyes.
E N D
Atomi felületi adalékolás technológiája és kémiai hatásainak tanulmányozása HREELS, AES és TDS módszerekkel Farkas Arnold Péter*, Solymosi Frigyes Reaction Kinetics Research Laboratory at the University of SzegedChemical Research Center of the Hungarian Academy of SciencesSzeged, Hungary
Az előadás felépítése • A kísérleteknél használt berendezés bemutatása • Alkáli párologtatás technikája, az adatom felületi viselkedésének irodalma • Kálium kötéserőssége és hatása a felületi struktúrára Mo2C/Mo(100) és Au(111) egykristály felületeken • Alkáli fém adalékolás (K) hatásának bemutatása különböző felületeken és módszerekkel: • CO2+K/Au(111) rendszer • Alkoholok (etanol) adszorpciója és reakciói K/Mo2C/Mo(100) felületen • Szénhidrogén fragmentek reakcióútjainak bemutatása (C3H7I adszorpció példáján)K/Mo2C/Mo(100) felületen, K-I felületi forma kialakulása • Összegzés
Kísérleti berendezés Uralkodó nyomástartomány: ~1,0*10-9 Torr • Mérési lehetőség 100 K - 1200 K hőmérséklet tartományban • HREELS - FWHM 2.5-5 meV és 104-105 cps • STAIB DESA 100–CMA és elekton ágyú • X-ray forrás az ATOMKI-tól (Tóth József) A minta kezelése • Au(111) minta (polírozott –cég: MaTeck) • - 1000 K felfűtés • - többszöri Ar bombázás + felfűtési ciklus (~850K). • Oxigénes vagy NO2 kezelés (szén tartalom) • Minden sorozat előtt: ~850K felfűtés és Ar bombázás • ciklusok (~1 óra ~1 μA 2keV Ar+ + felfűtés)
A kálium felvitele a mintára Minta előkezelés (Mo2C/Mo(100)): 1265 K-es felfűtés és Ar+ bombázás (2kV, 1-2 óra, kb. 1 μA mintaáram) SAES getter forrás: Általában valamilyen alkálifém-kromátot (Me2CrO4) és egy redukáló ágenst tartalmaznak a források, melyek a ráadott fűtőáram hatására fém K-ot (esetünkben) párologtatnak. Az idő növelésével egyenes arányban növelhető a párologtatott fém mennyisége.
Elektropozitív donor hatás • Ipari alkalmazás (Haber-Bosch (ammónia) és Fischer-Tropsch (szénhidrogén), alkohol, víz-gáz reakció stb.) • Kölcsönhatás jellege: „hosszú távú” kölcsönhatás v. közvetlenül az adszorbeált molekulákkal létrejött kölcsönhatás • Alkáli fémek erősen elektropozitív elemek alacsony ionizációs potenciállal (Na 5.14, K 4.34 eV) • Kis K borítottságnál taszító dipól-dipól jellemző a K adatomok közt, ez a lehető legnagyobb távolságra történő elhelyezkedéshez vezet. Ezek jellemzően a nagy koordináltságú helyek (111-threefold sites, 100 four fold sites) K/Pt(111) 0.33 borítottság monorétegnél és (√3x√3)R30° struktúrával. • 100 K-en is elegendően nagy mobilitás, hogy a rendezett struktúrák létrejötte ne legyen kinetikailag gátolt. • A borítottság és a kristálytani orientációs egyezések ellenére a különböző szubsztrátokon különböző diffúziós koefficiens és struktúra figyelhető meg. (pl.: Li on Mo(110) és W(110))
Befolyásoló tényezők az adszorpciós hőmérséklet, aktuális alkáli borítottság és a felület geometriai és elektronikus szerkezete • Nagy K borítottságoknál a dipól-dipól taszítás csökken a depolarizációs hatás következtében. • A legrövidebb távolság adatom-adatom közt sok esetben kisebb mint a tömbi alkáliban, a direkt alkáli- alkáli kölcsönhatás jelentős. • Alkáli multirétegek tiszta alkáli fémekként viselkednek. • Alkáli indukált felületi rekonstrukció [pl.: (110) felület Ag, Pd, Cu, Ni esetében; (1x1) -> (1x2)] • Kilépési munka csökkenés……….. M.P. Kiskinova: Poisoning and promotion in catalysis based on surface science concepts and experiments (Studies in Surface Science and Catalysis 1992 Elsevier)
Káliummal adalékolt Mo2C/Mo(100) felület jellemzése • A Mo2C/Mo(100) felület kilépési munkája (Ф) ~3,3 eV-al (±0.15 eV) csökken 1MR (~K=0.85 MR-nél) K hatására • Borítottság hatása a kötéserősségre: • 0,1 MR alatt Tm=900 K, 1 MR felett Tm=355 K ( Definíció MR) • Kis borítottságoknál ionos, nagyobb borítottságok esetén fém formában van jelen a felületen Bugyi, L.; Oszkó, A.; Solymosi, F. Surf. Sci. 461 (2000) 177. K pozíciója β-Mo2C felületen K on a three fold position at low K coverage [1K / 8Mo (0.37 MR)] K 3.6 Å K C Mo (felületi réteg) C. Pistonesi, A. Juan, A.P. Farkas, F. SolymosiSurf. Sci. 604 (2010) 914-919.
Káliummal adalékolt Au(111) felület jellemzése • K-al adalékolt Au(111) felület • 1. Kálium borítottsággal a struktúra periodicitása csökken: • 0.33MLK borítottságnál ( √3* √ 3)R30◦ • Magasabb borítottságnál K indukált rek.szigetek; ~0.5ML K (2*2) LEED pöttyök • 2. Au step atom mobilitás nő (gyengült kötés a második réteg felé) • 3. K-Au ötvözeti rétegek jöhetnek létre (300K-en 0.33 ML-nél nagyobb K borítottságoknál) • G. Ertl – Surf. Sci. 348 (1996) 280-286 8
Káliummal adalékolt Au(111) felület jellemzése Kilépési munka változása egykristály felületeken DF * Irodalomjegyzék felsorolása az előadás végén. • -töltés transzfer a káliumból a felületre • A kálium ad-réteg ionos jelleget mutat kis (≤0.3) és fémes jelleget nagyobb borítottságoknál. Kálium deszorpciója tiszta Au(111) felületről • 0,1 MR alatt Tp>600 K, felette 1 MR-nél Tp=370 K • ( a MR definiálása)
Az előadás felépítése • A kísérleteknél használt berendezés bemutatása • Alkáli párologtatás technikája, az adatom felületi viselkedésének irodalma • Kálium kötéserőssége és hatása a felületi struktúrára Mo2C/Mo(100) és Au(111) egykristály felületeken • Alkáli fém adalékolás (K) hatásának bemutatása különböző felületeken és módszerekkel: • CO2+K/Au(111) rendszer • Alkoholok (etanol) adszorpciója és reakciói K/Mo2C/Mo(100) felületen • Szén-hidrogén fragmentek reakcióútjainak bemutatása (C3H7I adszorpció példáján) K/Mo2C/Mo(100) felületen, K-I felületi forma kialakulása • Összegzés
A CO2 + K/Au(111) adszorpciós réteg Exp.= 8 L • Au(111) kilépési munka csökkenés K hatására ~3.2 eV • K + CO2 hatására kisebb mértékben • A K(252)/Au(69) AES arány lépcsőzetes növekedése • lineáris kilépési munka növekedés felfűtés hatására 800 K-ig • A ko-adszorbeált rétegben a kezdeti kis csökkenés után csak 600 K felett történik növekedés • A K(252)/Au(69) AES arány csökkenése csak 400 K felett Exp.= 8 L Q K= 1.2ML
A CO2 + K/Au(111) adszorpciós réteg – A kálium borítottság változtatásának hatása A CO2 hatására történő kilépési munka növekedés jelzi a K-al adalékolt Au(111) felületről történő elektron átadást a CO2 egy üres ppályájára, így a CO2- kialakulását a felületen: Ta=95 K Exp.CO2= 8.0 L CO2- K-Au vibr. Kδ+/Au δ- + CO2(g) = K δ+/Au-CO2δ-(a) A keletkezőCO2-jellemző rezgései: 957, 1350 és 1620 cm-1-nél. Nagyobb K borítottságnál ezek erősödnek intenzitásban, ami közvetlen és erős kölcsönhatásra utal a K és a CO2 közt: K(a) + CO2(g) = K+- CO2-(a) A 650 és 2350 cm-1 sávok ugyanazon szén-dioxid expozíció melletti növekedése (TPD-ben is megfigyelhető) a gyengén kötött CO2 felületi koncentrációjának növekedésére utal: (CO2)n.CO2-felületi komplex
A CO2 + K/Au(111) adszorpciós réteg felfűtése – kis K borítottság Kis kálium borítottságnál (≤0.3) az 1625 cm-1-es csúcs alacsony intenzitása a CO2 deszorpciójára utal: CO2-(a) = CO2(g) + e- , vagy disszociálva CO-ra: CO2-(a) = CO(a) + O- Ezen felül az 1460 cm-1-es veszteség megjelenése 200 K -nél nagyobb hőmérsékleteken, egészen 500 K-ig karbonát forma megjelenését jelzi: O-(a) + CO2-(a) = CO32-(a) Ta=100 K Exp.CO2= 8.0 L θK= 0.18 MR
A CO2 + K/Au(111) adszorpciós réteg felfűtése – nagy K borítottság 1370 és 1620 cm-1-es sávok 600 K-ig megfigyelhetőek CO2- keletkezése a CO2 és a K direkt kölcsönhatásából. A negatívan töltött szén-dioxid stabilitása nagyobb. 1440-1460 cm-1 megjelenése és stabil ill. meghatározó jelenléte a karbonát forma kialakulását jelzi a következő mechanizmusokat feltételezve: 2CO2-(a) = C2O42-(a) C2O42-(a) = CO32-(a)+CO(a), vagy közvetlenül: 2CO2-(a) = CO32-(a)+CO(a) Ta=100 K Exp.CO2= 8.0 L θK= 1.5 MR
Az UV bevilágítás hatása az adszorpciós rétegre Ta=110 K Exp.CO2= 8.0 L θK= 0.5 MR
Az előadás felépítése • A kísérleteknél használt berendezés bemutatása • Alkáli párologtatás technikája, az adatom felületi viselkedésének irodalma • Kálium kötéserőssége és hatása a felületi struktúrára Mo2C/Mo(100) és Au(111) egykristály felületeken • Alkáli fém adalékolás (K) hatásának bemutatása különböző felületeken és módszerekkel: • CO2+K/Au(111) rendszer • Alkoholok (etanol) adszorpciója és reakciói K/Mo2C/Mo(100) felületen • Szén-hidrogén fragmentek reakcióútjainak bemutatása (C3H7I adszorpció példáján) K/Mo2C/Mo(100) felületen, K-I felületi forma kialakulása • Összegzés
Etanol expozíció hatására kilépési munka csökkenés a Mo2C/Mo(100) felületen egészen 8.0 L-ig. (A ábra). ( ΔΦ is 1.2 eV) Az adszorbeált réteg felfűtésének hatására növekedés figyelhető meg (B ábra) ~700 K-nél maximum (0.25 eV), ami a C2H5OH disszociációból származó adszorbeált felületi CO-ra utal. Az etanol és a Mo2C/Mo(100) felület között erős kölcsönhatás van (elektron vándorlás az oxigén nem kötő elektronpárja és a felület között). K-Mo2C/Mo(100) felületen a C2H5OH adszorpcióját követően (ΘK = 1.0 MR) kilépési munka növekedést tapasztalhatunk (1.2 eV). (A ábra) A K és az etanol közti erős kölcsönhatás jelenléte csökkenti az elektron átadást a káliumból a Mo2C felület irányába. Etanol adszorpciója és reakciói K-Mo2C/Mo(100) felületen A B
Adszorbeált kálium hatása az etanol adszorpciójára és reakcióira a Mo2C/Mo(100) felületen • TPD eredmények • Kálium stabilizálta a felületen adszorbeált alkoholokat. • 450–500 K-en, H2, CO, acetaldehid, etén és metán (a C2H5OH-ból) képződött, az etén mennyisége K adalékolásra csökkent. • közel egyező deszorpciós hőmérséklet (H2, CO és a K) • felületi komplex • K + C2H5OH(g) = C2H5O–K(a) + H(a) • Bomlása valószínűleg acetaldehiden keresztül, ami vagy deszorbeálódik, vagy tovább bomlik CO-ra, és metánr:a (és K-ra). • CH3CHO(a) = CH4(a) + CO(a) A.P. Farkas.; F. Solymosi Surf. Sci. 602 (2008) 1475-1485.
Adszorbeált kálium hatása az etanol adszorpciójára és reakcióira a Mo2C/Mo(100) felületen • HREELS eredmények • K-al promotált felületen • Stabilizál a C2H5O– K felületi komplex • kialakulása közben: • C2H5OH(a) + K = C2H5O–K + H(a) • A 436 (δ(CCO)), 1060 cm-1-nél (ν(CO), • νa(CCO)) tapasztalt elnyelési sávok jelenléte • és a 3260 cm-1(ν(OH)) csúcs eltűnése • lehet a bizonyíték a spektrumokon. • 100 K-től - 500 K-ig jelen is voltak jelezvén a • K-etoxi nagy stabilitását. • VAGY • C–O kötés szakadásán keresztül: • C2H5OH(a) = C2H5(a) + OH(a). • 770 γ(CH2), 940 τs(CH2) és 1120 cm-1–nél ω(CH2), kis C2H5OH expozícióknál (0,5–4.0 L). • etil csoport Kálium borítottság hatása a HREEL spektrumokra 8 L etanol adszorbciót követően Mo2C/Mo(100)felületen Ta=100K.
Az előadás felépítése • A kísérleteknél használt berendezés bemutatása • Alkáli párologtatás technikája, az adatom felületi viselkedésének irodalma • Kálium kötéserőssége és hatása a felületi struktúrára Mo2C/Mo(100) és Au(111) egykristály felületeken • Alkáli fém adalékolás (K) hatásának bemutatása különböző felületeken és módszerekkel: • CO2+K/Au(111) rendszer • Alkoholok (etanol) adszorpciója és reakciói K/Mo2C/Mo(100) felületen • Szén-hidrogén fragmentek reakcióútjainak bemutatása (C3H7I adszorpció példáján) K/Mo2C/Mo(100) felületen, K-I felületi forma kialakulása • Összegzés
C3H7I adszorpció K-al adalékolt Mo2C/Mo(100) felületen • Molekuláris adszorpció, K • borítottságtól függően a C-I kötés • szakadása már 100 K-en. • A C3H7 (K stabilizálja) reakciói: • Dehidrogéneződés • C3H7(a) =C3H6(a) +H(a) • Hidrogéneződés • C3H7(a)+H(a) = C3H8(a) • A kálium elősegíti a kapcsolási reakciókat: hexán és hexén a tiszta felületen tapasztaltakhoz képest megnövekedett mennyiségben
C3H7I adszorpció K-al adalékolt Mo2C/Mo(100) felületen • Molekuláris C3H7I adszorpció • 885, 1020, 1195, 1380, 1465 és 2966 cm-1-nél • (8L propil-jodid –tiszta felületen) • 100 K-enkis C3H7I expozíciónál (0.4 L) • K=0.33-tól • új sávok: 1370, 2712 és 2860 cm-1-nél • C-I szakadás, Propil csoport Kálium borítottság hatása a HREEL spektrumokra 0.4 L propil-jodid adszorbciót követően Mo2C/Mo(100)felületen Ta=100K.
A felületi KI ionos forma kialakulása • TPD: • A felületi ionos forma létrejöttét (Kδ+-Iδ-) a • kálium deszorpciójának változása is jelzi • A kálium és a jód egyidejű deszorpciója • (Tp= 648-688 K) • HREELS: • 207 K-es felfűtés ~375 és 650 cm-1-es sávok • a KI felületi fonon módusainak gerjesztése • (általában Fuchs-Kliewer módusnak nevezik*) • már 100 K-en az UV-fénnyel besugárzott • felületi rétegről készült • felvételeken KI szigetecskék még ilyen alacsony hőmérsékleten (100 K-en) is lehetőség van a K, a jód és a C3H7csoportok vándorlására a felületen. A hajtóerő egy stabil felületi KI ionos forma létrejötte *Saiki, K.; Nakamura, Y.; Nishida, N.; Gao, W.; Koma, A. Surf. Sci. 301 (1994) 29.
A következtetések összefoglalása • Kálium atomok csökkentik a felület kilépési munkáját, mintegy 3.2 eV-al. • Az Au(111) felületena struktúra periodicitása csökken, a Au step atom mobilitás nő (gyengült kötés a második réteg felé) • Borítottság hatása a kötéserősségre (350 K és magasabb hőmérsékletű deszorpció) • CO2 + K/Au(111) adszorpciós réteg • A CO2 stabilizálódik a K-al adalékolt Au(111) felületen tiszta felülethez képest és CO2- képződését tapasztaltuk. • A CO2- reakcióútja függ a kálium borítottságtól; disszociáció kis ill. karbonát képződés nagy kálium borítottságnál. • A fém kálium és a CO2 köztidirekt kölcsönhatást jelzi a kálium stabilizáló hatása a koadszorpciós rétegre. 2014.08.30. 24
CxHyOH + K/Mo2C/Mo(100) adszorpciós réteg • Az alkoholok adszorpciója kissé növelte a felület kilépési munkáját K jelenlétében (ami önmagában mintegy 3 eV-al csökkenti azt). • A kálium stabilizálta az adszorbeált alkoholokat a Mo2C/Mo(100) felületen. Így azok magasabb hőmérsékleten bomlottak el, H2, CO, CH4, C2H4 és CH3CHO képződése mellett (etanol esetében). • HREELS méréseink az adszorbeált alkoholok C-O és O-H kötéseinek szakadására ill.ennek megfelelően a CxHyO-K(a) és CxHyO(a) felületi formák megjelenésére is bizonyítékot szolgáltattak. • CxHyI + K/Mo2C/Mo(100) adszorpciós réteg • a K kissé stabilizálja a CxHyI molekulákat a borítottságtól függően a felületen • A CxHyI molekulák átlagosan ~50 K-el alacsonyabb disszociációs hőmérséklete a felület megnővelt reaktivitására (K-CxHyI reakció), a magasabb desz. hőmérsékletek a CxHy csoport stabilizációjára utalnak. • A K alacsony hőmérsékleten elősegíti a kapcsolási reakciókat melyet a nagyobb mennyiségben keletkező termékek: etén, hexán, hexén jeleznek.
A K és jód deszorpciója (Tp=652, 684K) egyazon hőmérsékleten, egymás kölcsönös stabilizációjára utalnak egy ionos felületi formán keresztül (650cm-1). • Kálium jelenlétében a termikusan indukált C-I kötés teljes szakadása (kis és nagy K borítottságnál is) már 100-150K-en végbemegy, UV bevilágitás hatására (illetve a borítottságtól függően) pedig már 100K-en. • Az adott alkil-jodid disszociációjából származó szén-hidrogén csoportra utaló jeleken túl a képződő termékek prekurzor molekulái is megfigyelhetőek a spektrumokon úgymint di- σ-etilén, π-kötésű etilén és di-σ-propilén. • A felületi KI képződését a 370 és ~650 cm-1-es csúcsok megjelenése indikálja. Köszönöm a megtisztelő figyelmet!
Részvételem az előadás témájához kapcsolódó publikációkhoz: • Farkas A P, Koos A, Bugyi L, Solymosi F • Effects of potassium on the reaction pathway of C3H7 species over Mo2C/Mo (100). • Surf. Sci. 600: pp. 2355-2363. (2006) • Farkas AP, Bugyi L, Koós Á, Solymosi F • Effects of potassium on the reaction pathways of CH2 fragment over Mo2C/Mo(100). • Surf. Sci. 601:(18) pp. 3736-3739. (2007) • Farkas AP, Koós Á, Bugyi L, Solymosi F • Adsorption and reaction of methyl and ethyl iodide on potassium-promoted Mo2C/Mo(100) surface. • J. Phys. Chem. C 112: pp. 18502-18509. (2008) • Farkas AP, Solymosi F • Effects of potassium on the adsorption pathways of methanol and ethanol on Mo2C/Mo(100). • Surf. Sci. 602: pp. 1475-1485. (2008) • Farkas AP, Solymosi F • Activation and reactions of CO2on a K-promoted Au(111) surface. • J. Phys. Chem. C 113:(46) pp. 19930-19936. (2009) • Farkas AP, Solymosi F • Photolysis of the CO2 + K/Au(111) system. • J. Phys. Chem. C 114: pp. 16979-16982. Paper 10.1021/jp101841b. (2010) • Pistonesi C, Juan A, Farkas AP, Solymosi F • Effects of potassium on the adsorption of methanol on β-Mo2C(001) surface. • Surf. Sci. 604: pp. 914-919. (2010)
Felhasznált irodalom a kilépési munka változások összehasonlító táblázatában: • Liu, Z. M.; Solymosi, F.; White, J. M. Surf. Sci.1991, 245, 289. • Solymosi, F.; Bugyi, L. J. Chem. Soc. Faraday Trans. I.1987, 83, 2015. • Min, B. K.; Alemozafar, A. R.; Biener, M. M.; Biener, J.; Friend, C. M. Top. Catal.2005, 36, 77. and references therein. • Onsgaard, J.; Hoffmann, S. V.; Moller, P.; Godowski, P. J., Wagner, J. B.; Paolucci, G.; Baraldi, A.; Comelli, G.; Groso, A. ChemPhysChem. 2003, 4, 466; Onsgaard, J.; Godowski, P. J.; Nerlov, J.; Quist, S.; Hoffmann, S. V. Surf. Sci.1998, 398, 318. • Herrera-Fierro, P.; Wang, K.; Wagner, F. T.; Moylan, T. E.; Chottiner, G. S.; Scherson, D. A. J. Phys. Chem.1992, 96, 3788.